中古 NANOMETRICS 4000 #9188715 を販売中

NANOMETRICS 4000は、半導体業界の高精度、高精度の要求を満たすように設計された最先端のマスクおよびウェハ検査装置です。10nmの解像度、8チャンネルのバックライト付き64mm2センサーを搭載し、超高速、低ノイズイメージング、2D解析が可能です。このユニットは、複数のFPGA、 ASIC、 DSPを活用した強力な専用プラットフォーム上に構築されており、複数の基板にわたる欠陥検出、測定、計測、分類、検証、および歩留まり解析に最適なパフォーマンスを保証します。最先端の光学系やミラーを使用して、サンプルの鮮明で詳細な画像を作成し、高精度な画像解析を可能にします。4000に効率および正確さを最大にするように設計されている特徴の広い範囲があります。その高度なアルゴリズムは、非常に小さな欠陥や粒子を検出することができ、さまざまな種類の欠陥はサイズ、重症度、または欠陥タイプによって分類することができます。また、マスク専用基板とマスクプラス基板の両方を手動で調整することなく検査および分析することができます。さらに、マシンに内蔵されているデータ収集および処理モジュールにより、効率的なデータアーカイブと柔軟なデータ収集およびストレージオプションが保証されます。このツールには、マスク検査パラメータのカスタマイズを簡素化する直感的なユーザーフレンドリーなインターフェイスが付属しています。照明角度、ピクセルサイズ、レイヤータイプなどの露出パラメータや、欠陥検出アルゴリズム、欠陥マーク位置、マーク重大度などの高度な設定を簡単に設定できます。また、自動摩耗補正、欠陥検査スケジューリング、歩留まり解析などのさまざまな追加機能も提供しています。NANOMETRICS 4000は、あらゆる生産ラインに適した信頼性の高い包括的なマスクおよびウェーハ検査資産です。その高い性能と柔軟性は、製品の最高の精度と信頼性を確保する必要がある半導体メーカーにとって理想的な選択肢です。