中古 NANOMETRICS 210 #9123978 を販売中

NANOMETRICS 210は、半導体製造および検査に最適なマスクおよびウェハ検査装置です。このシステムは、最先端のスペクトル画像スキャンアルゴリズムを使用して、迅速かつ正確な検査結果を提供します。このユニットは、2つの独立した検査モード、高解像度モードと高いダイナミックレンジモードを提供し、ユーザーは細部と明瞭さで幅広い基板を検査することができます。210マシンには、対物レンズ、ライトシールド、照明源などの高度な光学部品で構成される高度な光学ツールが含まれています。この光学資産は、0.5µmの優れた解像度を有し、正確で信頼性の高い結果を保証します。さらに、このモデルの光学機器は、高速で詳細なデータ収集のためのスリットスキャンとフィールドスキャンを利用しています。さらに、NANOMETRICS 210システムは、革新的なモノクロバイモラーチェーンイメージングアルゴリズムを統合しています。このアルゴリズムにより、透明、金属、グレースケールなど、幅広い基板のパターンや寸法の欠陥を検出することができます。光学機械及び画像処理アルゴリズムの組合せは正確で、速い画像処理を保障します。この組み合わせにより、10µm以上の範囲と優れたダイナミックレンジで高解像度の画像を生成することができます。さらに、この資産には、分析と欠陥検査が可能なモジュラーソフトウェアスイートが装備されています。そのソフトウェアには、マスク検査と欠陥分類、欠陥レベルの測定とレビュー、および低い誤報率を維持しながら欠陥を選択、ローカライズ、測定する機能が含まれています。210は半導体の生産の条件を満たすように設計されています。このモデルは、高速スループット、高解像度、精度、低い誤報率、およびソフトウェア内で実装されたさまざまな分析技術を提供します。これらの部品は、幅広い基板および欠陥タイプとともに検査することができ、高速かつ正確で高収率の半導体の生産を可能にします。