中古 NANOMETRICS 200 #9226184 を販売中

NANOMETRICS 200は、高精度の3D計測と欠陥分解能を提供する最先端のマスクおよびウェーハ検査装置です。半導体デバイスや材料の表面欠陥と地下欠陥の両方を検出するために使用されます。200は、高度なナノスケールイメージング技術と包括的な画像処理アルゴリズムを組み合わせています。このシステムは、マスク検査とウェーハ検査の両方に対応するさまざまな測定モードを提供し、マスクまたはウェーハの端の形状を測定するように設定することもできます。ユニットは、高解像度レンズ、スキャンヘッド、イメージキャプチャ装置、ステージの位置と動きを制御するモーター付きステージマシンを備えたハードウェアユニットで構成されています。ハードウェアユニットは、ユーザーインターフェイス、画像処理アルゴリズム、およびその他の機能を提供するコンピュータに接続されています。このソフトウェアスイートには、欠陥追跡、統計プロセス制御、高度な表面再構築、プロセス最適化など、マスクやウェーハを検査するためのさまざまなツールが含まれています。NANOMETRICS 200は、さまざまな用途にさまざまなイメージング技術を使用しています。これらの画像技術には、レチクルフォーカスイメージング（RFI）、高解像度イメージング（HRI）、パターンライトイメージング（PLI）、エリアアレイイメージング（AAI）、電子ビームイメージング（EBI）などがあります。これらの技術は、すべての表面および地下欠陥が正確かつ確実に検出されるようにするのに役立ちます。精密マスクおよびウェハ検査機能に加えて、200を使用して形状の特徴を測定し、寸法関連のプロセス問題を解決し、最小のプロセス誘発欠陥を検出することができます。このツールには、自動欠陥分類とソート機能も装備されているため、異なる欠陥タイプを特定して区別することが容易になります。NANOMETRICS 200は、広い領域をスキャンして測定することができ、複数のマスクやウェーハの検査作業を容易に処理できます。その高度な解析アルゴリズムは、最も細かい欠陥を検出することができ、顧客が正確な結果を得ることができます。その信頼性の高い操作と直感的なユーザーインターフェイスを組み合わせることで、マスクやウェーハの検査作業に最適です。