中古 MOLECULAR IMPRINTS Imprio 55 #293590454 を販売中

MOLECULAR IMPRINTS Imprio 55は、半導体製造プロセスにおいて最大限の柔軟性を提供するように特別に設計された包括的なマスク&ウェーハ検査装置です。このシステムは、基板材料の全範囲にわたって、重要なフィーチャーのサイズ、および層および重要なオーバーレイ特性の高速で正確かつ再現性のある測定を提供します。Imprio 55は、高解像度の光学ウェハイメージングサブシステムで構成されており、マスク検査ヘッドがトップマウントされており、上面と下面の両方を同時に表示できます。このイメージングサブシステムは、レーザーダイオードとモアレ位相シフトを含む5つの光学チャネルを備えており、独自の画像処理アーキテクチャで最適化されたイメージングを提供し、欠陥を迅速かつ正確に検出します。このユニットは、等方性表面検査のための円偏光検査も提供しています。MOLECULAR IMPRINTS IMPRIO 55は、光学イメージング機能に加え、強力なin-situサンプルローディングとポジショニングマシンで設計されており、無人運転で最大12枚のマスクの迅速なウェーハ位置決めと検査が可能です。直感的なグラフィックユーザーインターフェイスを備えた中央制御コンソールで、さまざまなデータ分析ツールをサポートしているため、事前に定義された検査プロファイルにアクセスでき、カスタマイズされた設定および分析パラメータをカスタマイズできます。複数のオーバーレイモードを使用すると、精密2軸ステージの助けを借りて、さまざまなアライメント仕様を検査する柔軟性が得られます。Imprio 55はまた、CD、クリティカル寸法、座標、ライン幅の測定、オーバーレイ位置、フラットトップ/ボトム、オーバーレイのハイコントラスト結果など、さまざまな高度な測定ソリューションを備えた統合計測パッケージを提供します。さらに、完全登録を含む、プロセス制御に固有のハイエンドの統計プロセス制御モード、分析、レポートをサポートしています。要するに、MOLECULAR IMPRINTSのMOLECULAR IMPRINTS Imprio 55マスク&ウェハ検査ツールは、半導体製造に必要な柔軟性、精度、再現性を提供するように設計されています。高解像度の光学アセット、自動ウェーハの読み込みと位置決め、洗練された画像処理および統合計測機能により、モデルはマスクとウェーハの高度な検査と分析を迅速かつ確実に実行でき、生産時間とコストを最小限に抑えることができます。