中古 MOLECULAR IMPRINTS Imprio 55 SFIL #9037906 を販売中

分子インプリントImprio 55 SFILは、走査型電子顕微鏡（SEM）を使用してサブミクロンレベルの欠陥検出精度を提供するマスクおよびウェハ検査装置です。これは、硬質および弾性変形性基板の両方で事前にパターン化されたマスク層とデバイスマスク層を検査するように設計されています。このシステムは、ウェーハレベルで比類のない解像度を持つ自動非破壊画像を提供し、従来のイメージングと分光モードの両方で欠陥を正確に識別および特徴付けることができます。インプリオ55は、6 keVまでのビームエネルギーを生成することができる高エネルギーSEM電子源を含んでいます。これにより、粒子/スポットサイズ全体を低減しながら、さまざまな欠陥関連解析に高い感度を提供します。Imprio 55のピクセルレートは最大120万/秒で、表面モードと断面モードの両方で画像とデータを素早く蓄積できます。Imprio 55の高度な光学およびイメージング機能は、他のマスクおよびウェーハ検査システムと区別します。例えば、偏光を高めた複数の単色電子源を利用した高度な仮想低ノイズイメージングを提供します。これにより、ウェーハ上のサイズや位置に関係なく、欠陥を特定するための優れた解像度とより正確なコントラストが得られます。さらに、Imprio 55の独自のスキャンコントロール機能により、ユーザーはシングルサイトまたは複数サイトの検査用にユニットを構成することができます。これにより、望ましいイメージングおよび欠陥検出機能を実現するために手動で調整する必要がなくなります。Imprioには、自動パターン認識技術も含まれており、手動技術と比較してよりクリーンで高速なイメージングを可能にします。リモートコントロール機能と組み合わせることで、Imprio 55はユーザーが機械から離れた場所で操作を監視することができます。それにまた生産ライン監視およびプロセス制御に使用することができる自動化されたプロセス監視があります。最後に、このツールには、3D画像解析、ヒストグラム解析、機能認識など、さまざまな強力なソフトウェアツールと機能が付属しています。Imprio 55 SFIL from MOLECULAR IMPRINTSは、サブミクロンレベルの欠陥を高精度で検出および特性評価するために設計された信頼性の高い強力なマスクおよびウェーハ検査アセットです。その高度なイメージングコンポーネントと自動化された機能により、従来および変形可能な基板の生産ライン監視、プロセス制御、欠陥解析に最適なツールです。