中古 MICRO-METRIC MicroLine ML420 #9266732 を販売中

MICRO-METRIC MicroLine ML420 Mask&Wafer検査装置は、半導体製造プロセスのますます厳しい要件を満たすように設計されています。半導体デバイスの完全性を分析するために、高度な光学技術と計測技術を利用しています。このML420は、高密度、マルチレベルパターン、回路構造、サブミクロンの特徴、および最大2ミクロンの深さでの欠陥形成を検査することができます。このシステムは、最大4Kスキャン/秒の速度で最大250mmウェーハをスキャンおよび検査できる自動ステージを備えています。また、ML420にはユニークなスピンスキャン機能が装備されており、検査中にウェーハを回転させることができます。これにより、各フィーチャーをより詳細に見ることができます。さらに、ウエハ表面のトポグラフィを補正するためにスキャンしながら画像フィールドを調整する自動フォーカスパービュー（FPV）モジュールを搭載しており、より高い精度と精度を提供します。ML420には、統計基準に基づいてパターンや欠陥を検出する強力なLight Path Process （LPP）アルゴリズムもあり、ユーザーによる手動データ検証の必要性を最小限に抑えます。ML420には、内蔵の画像品質向上（IQE）アルゴリズムも含まれています。これらのアルゴリズムは自動的に取得した画像を強化し、ゲインとオフセット値を手動で調整する必要がなくなり、プロセスの再現性が向上します。このマシンは、堅牢な最適化機能と設定可能な動作パラメータにより、レジストイメージング、サブピクセルエッジ検出、クロスライン測定検査などの幅広いアプリケーションにも使用できます。このML420には、統合された欠陥管理ツールも含まれており、欠陥の分離、特性評価、検出、分類、フラグ付けのための自動化されたワークフローを提供します。これにより、検査時間を短縮し、重要な欠陥が見逃されないようにします。さらに、データロギング、レポート作成、リモート診断機能も備えており、ユーザーがリアルタイムで問題をトラブルシューティングするのに役立ちます。MicroLine ML420 Mask&Wafer Inspectionモデルの高度な機能により、半導体デバイス向けの手ごわいソリューションとなっています。高密度のサブミクロン構造物や複雑な回路の検査に信頼性と効果的な結果を提供し、歩留まりの向上とプロセス制御の向上をもたらします。これにより、先進的な光学検査ソリューションをお探しの企業にとって、ML420は最高の選択肢となります。