中古 MICRO ENGINEERING LM 320 #9085607 を販売中

MICRO ENGINEERING LM 320は、アプリケーション固有の標準製品（ASSP）や大面積ICの製造に使用される最も複雑なフォトマスクを検査するために開発された高度なマスクおよびウェハ検査装置です。フォトマスクやウエハーの画像をキャプチャすることで、粒子、汚染物質、欠損金属などの小さな欠陥や、故障につながる表面の不規則性を検出することができます。高性能な充電結合デバイス（CCD）カメラと高度な光学系を搭載し、自動生成された光学パラメータと広い視野とミクロンサイズの機能の両方をカバーする光学フィールドを備えた正確な視覚検査を可能にします。機械は1。0ミクロンの小さい粒子を検出することができます。それは0。4ミクロンまで特徴を識別でき、1。2ミクロンのプログラム可能な最低の特徴のサイズがあります。また、高速スキャンレートと検査精度の向上を可能にする電動ステージも備えています。ツールの視野は、可能な限り最高の画像を提供しながら、必要な解像度を満たすように調整することができます。このアセットはWindows環境で実行されるため、コンピュータに精通した基本的な操作が簡単に行えます。分析ソフトウェアもユーザーフレンドリーであり、ルーチンチェックを実行し、必要に応じて実行可能なフィードバックを提供するように設定することができます。このモデルには、オーバーレイ、反り、反射率、粒子検査などのマスクおよびウェハ評価アプリケーションの完全なスイートも含まれています。これにより、追加のソフトウェアを購入することなく、幅広い検査および計測ニーズに適しています。このソフトウェアは、市場で入手可能な最も先進的なマスクおよびウェーハ評価および検査パッケージの1つであり、非常に信頼性の高いデータを提供します。装置は非常に小さいから非常に大きいへの欠陥の広い範囲を検出する機能を備え、潜在的な問題が迅速かつ正確に識別され、対処されることを保証します。LM 320は、あらゆる種類のフォトマスクやウェーハの開発、製造、検査に役立つツールです。これは、最も複雑なマスクやウェーハからサンプルを素早くスキャンして評価することができ、フォトマスクやウェーハの組み立て、検査、製造に携わる人々にとって信頼性が高く効果的なソリューションです。