中古 METRICON PC 2010 #9084282 を販売中

METRICON PC 2010は、フォトリソグラフィーマスキングやウェーハ加工に使用するためのマスクおよびウェーハ検査装置です。このシステムは、フォトマスクとウェーハの反射率プロファイル（400-750 nmの光反射率）に基づいて品質を検査し、各サンプルの完全な可視スペクトルで代表的な反射率プロファイルを持つレポートを提供します。このユニットは、フォトマスクの材料欠陥を検出し、あらゆるサイズのウェーハの検査レポートを作成するように設計されています。それはTri Stackの基づいた照明を使用して200mmまでダイスを点検できる高度の光学読書機械および注文100x descanningおよびイメージ投射のプラットホームを特色にします。このツールは、METRICON Image Analysisソフトウェアパッケージを実行するウェハステージ、光学ヘッド、およびコンピュータ資産で構成されています。光学ヘッドには、100倍の対物レンズと、緑、赤、赤色のLEDを含む多数の光源からなるバックライトスキャナが含まれています。対物レンズはYテーブルに取り付けられ、XY変換ステージとX軸の回転ステージがあります。これにより、サンプル全体で光源をスキャンすることができ、サンプルはウェハステージで固定されます。ウェーハステージは、2つの調整可能な傾きと回転ステージ、固定チャックと真空ピックアップホルダーで構成されています。ウェーハステージには、機械的および電磁的ステージ校正モデルも備えています。METRICON画像解析ソフトウェアは、強力な画像解析と比較ソフトウェアパッケージです。これは、サンプルごとに個々の反射率プロファイルを提供する自動グローバルグラフ技術を備えており、サンプルの明暗レベルを正確に比較することができます。このソフトウェアには欠陥マッピングアプリケーションも含まれており、ユーザーはサンプルの特徴を可視範囲と見えない範囲の両方でマップすることができます。また、ウェーハ全体の厚さを自動的に測定し、空間誤差と時間誤差を識別することもできます。全体として、METRICON PC 2010Mask&ウェーハ検査装置は、ユーザーがマスクの品質を検査し、ウェーハ検査レポートを迅速かつ正確に作成できる高度なシステムです。スキャンとイメージング機能により、サンプルの明るい領域と暗い領域の両方を正確に測定できます。さらに、内蔵の画像解析ソフトウェアにより、複数のサンプルを比較したり、表面欠陥をマッピングしたりすることが容易になります。このように、このユニットはフォトリソグラフィ業界の品質保証と生産プロセスのための貴重なツールです。