中古 METRICON 2010 #9246090 を販売中
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ID: 9246090
Prism coupler
Reflective index: Single / Dual thin film layers
Measurement accuracy and resolution:
Index accuracy: ± .001
Thickness accuracy: ± (0.5% + 50 A)
Index resolution: ± .0005
Thickness resolution: ±0.3%
Refractive index measuring range:
Films and bulk materials with refractive index: 2.45
Films with index up to 2.70 (Depending on film thickness)
Typical measurement time:
10-25 Seconds with standard table
15-75 Seconds with high resolution table
Index measurement of bulk materials / thick films:
Accuracy: ± .001
Resolution: ± .0005
Bulk measurement: 5-20 Seconds
Operating wavelength:
Low power: 0.5mW
He-Ne Laser: 632.8nm
CDRH / BRH Class II
Substrate materials:
Silicon
GaAs
Glass
Quartz
Sapphire
GGG
Lithium niobate
Substrate size: Up to 150 mm²
Prism types / Index range:
200-P-1 / <1.80
200-P-2 / 1.70-2.45
200-P-3 / <2.10
200-P-4 / <2.02
Rotary table step size:
3.0 or 1.5 min
High resolution tables: 0.9/0.45 or 0.6/0.3 min
No-charge option.
METRICON 2010は、半導体検査の最高水準を満たすように設計された最先端の自動マスクおよびウェーハ検査装置です。このシステムは、高度なパターンマッチングおよび光学顕微鏡技術を使用して、マスク欠陥とウェーハ汚染を比類のない精度で発見し分類します。高度なアルゴリズムにより、2010年は高精度な解像度でウェーハをスキャンすることができ、ミクロンの1/100までの欠陥を検出することができます。また、独自の照明ソリューションにより、METRICON 2010は、検査されたウェーハの欠陥の最小値を正確に識別することができます。12MPカメラ技術により、0。2um以上の粒子やサブミクロンの欠陥を最大0。5umまで検出することができます。ウェーハ全体に焦点を当てるだけでなく、2010年は業界標準のクリーンルーム構成や、不良箇所を迅速に特定してトラブルシューティングできる高度なフォルト絶縁機能にも準拠しています。これにより、オンスペック部品の高収率とプロセス効率の向上を保証します。METRICON 2010の他の機能には、マスク検査全体の高速スキャンや、欠陥箇所を視覚的に表示できる直感的なGUIがあります。サイズ、形状、位置、向きなどの欠陥属性を表示することで、欠陥分類の精度が向上します。2010年の機械の自動化された多機能性は、ハイスループット生産に理想的な選択肢となり、マスクおよびウェーハ検査プロセス全体でのコスト効率と効率の向上を実現します。この高度なツールは、現在急成長している半導体産業の課題に対応するために、優れた精度と性能を提供するように設計されています。
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