中古 METRICON 2010/M #80299 を販売中

METRICON 2010/M Mask and Wafer Inspection装置は、集積回路の重要な生産に使用される、自動化された高精度の光学検査および測定ツールです。このシステムは、マスクとウェーハ材料の検査と測定に使用される統合ユニットに3つの専門機器を組み合わせています。これにより、自動可視化、柔軟なテスト、パス/フェイル分類を通じてウェーハ機能の評価が可能になります。METRICON 2010/Mは、ウェーハ欠陥検査用のXYステージと、マスク形状や輪郭を測定する2つの光学機器で構成されています。XYステージは2次元スキャンプラットフォームを駆動し、マスクまたはウェーハの上面図と断面図の両方をキャプチャできます。光学機器には、マスクの光散乱特性を測定するために使用される散乱計と、走査型電子顕微鏡（SEM）が含まれます。SEMは、マスクの構造や特性を解析するために使用され、3Dイメージングに適した高解像度画像を提供します。METRICON 2010/Mツールには、これら2つの機器に加えて、マスクやウェーハの高さと形状の測定に使用される3Dステージも含まれています。これは、表面をスキャンするレーザービームを使用して行われ、問題のオブジェクトの3D画像を構築するために使用されます。最後に、METRICON 2010/M資産には、分析のためのデータ取得のワークフローを自動化するために使用される多数のソフトウェアコンポーネントも含まれています。このソフトウェアには、データの迅速な分析を可能にする統計モデルと、検査プロセスで取得した大量のデータから情報を抽出するためのデータマイニングモジュールが含まれています。METRICON 2010/Mモデルは、マスクおよびウェーハ検査のための強力なツールであり、特徴を評価する際に高精度と精度を提供します。これらのツールを活用することで、手動検査と比較して、テストサイクル時間の短縮とコスト効率の向上を実現できます。この装置は、品質管理とプロセス監視の両方のために、集積回路の生産における大手半導体企業によって使用されています。