中古 MEISHO NM-0402 #9078486 を販売中

MEISHO NM-0402は最高の効率および性能のために設計されているマスクおよびウェーハの点検装置です。高度な光学システムとセンサーヘッド構成を備えており、ピクセルレベルの比較と欠陥検出のための高解像度画像を提供します。このユニットは、複雑な欠陥に対する光学パターンの自動解析も可能です。 光学機械は縦の線形ドライブに取付けられる前部telecentric目的の組を、作り付けの焦点サーボと、連続的にイメージを鋭く、一貫した保つために光学の焦点を調節するために含んでいます。レンズツールは、10 x 10cmの面積をカバーする1xフィールドで最大解像度の4.5µmで広い視野を提供します。このアセットには、400〜1100 nmの可変波長範囲があり、幅広い用途に対応しています。NM-0402は、明るいフィールド、ダークフィールド、および光学コントラストイメージングアプリケーション用の光源を備えています。さらに、最大4k x 4Kピクセルの高速スキャンが可能で、検査時間を短縮するためにスキャン速度と露出パラメータを正確に制御できます。MEISHO NM-0402は、パターン認識と欠陥検出機能を備えた高度な画像処理モデルを搭載しています。広域非均一性や汚染からライン/エッジ欠陥、粒子まで10nmまでの欠陥を検出することができます。また、イメージデータを保存および管理するための内部データベースも備えています。NM-0402は、ウェーハ検査、ウェーハパターンの欠陥検出、光学品質および汚染、マスクの検査および計測に使用できます。また、複数のデータフォーマットと互換性があるため、既存のシステムに簡単に統合できます。要するに、MEISHO NM-0402は、高度な光学系、高度な画像処理システム、データベース管理ユニットを備えた効率的で強力なマスクおよびウェーハ検査装置です。これは、アプリケーションの広い範囲に使用することができ、既存のシステムに統合することが容易です。