中古 LEICA / VISTEC MIS 200 #77516 を販売中

LEICA/VISTEC MIS 200は、半導体業界で使用される洗練されたマスクおよびウェーハ検査装置です。このシステムは、卓越した光学およびイメージングツールと相まって、クラス最高の光学検査技術を使用して、正確で信頼性が高く、再現性のある結果を提供します。このユニットは、フォトマスク検査用に特別に設計されており、その高倍率機能、柔軟性、高度なカラーイメージング技術により、最も包括的なマスク検査機が利用可能です。このツールは、優れた画質と解像度を提供するように設計された高度な光学技術を利用しており、幅広いサイズ、形状、材料のための検査結果の広い範囲を生成します。このアセットはモジュラー設計を採用しており、イメージング/検査用の5x〜40xネイティブ倍率（ズーム範囲500xまで）、光ファイバー照明、ブライトフィールド、ダークフィールド、斜め照明、自動ダークフィールドおよびブライトフィールド検査など、さまざまな光学機能を使用しています。このモデルは、イメージングおよび解析ソフトウェアスイートARRIANA LABとインタフェースして、不透明さ、エッジプル、詳細なイメージングおよびその他のアプリケーションのリアルタイムの欠陥レビューと最適化を可能にします。この装置は、自動画像取得とオートフォーカス機能、堅牢な色管理、高度なパターン認識ソフトウェアを備えています。また、複数の画像を同時に見ることができるMIV （Multiple Image View）技術を搭載し、品質保証と欠陥解析を提供します。システムにはフルファンクションクライアント/サーバネットワーキングアーキテクチャが装備されており、マスクと他の診断ツール間で迅速かつ簡単にデータ共有できます。このユニットには、ほこりや傷などの画像アーティファクトの効果を正確にシミュレートする近接効果補正（PEC）パッケージが含まれています。ウェーハ、部品、アセンブリの検査にも使用できます。ウエハー処理中に発生する微細な粒子や傷などの異常を検出する高解像度イメージングと低照度機能を提供します。高度な分析機能により、ユーザーは潜在的な問題をすばやく特定して修正できます。LEICA MIS 200は、半導体メーカーにとって非常に貴重な資産であり、安全で信頼性の高い高収量の生産を保証します。それは優秀な性能および品質管理の結果を提供する生産、品質管理および失敗の分析の塗布にとって理想的です。