中古 LEICA / VISTEC MIS 200 #293671051 を販売中

LEICA/VISTEC MIS 200は、半導体業界で使用される洗練されたマスクおよびウェーハ検査装置です。露出したフィルムマスクとウェーハ基板の両方を高解像度で撮影できるため、マスクとウェーハの最小誤差を素早く検出できます。このシステムは、光学、エレクトロニクス、ソフトウェアの組み合わせにより信頼性が高く、すべての欠陥が正確に識別され、マッピングされます。このユニットには、多数のマスクおよびウェハフォーマットを処理できるステップアンドリピートモジュールが含まれています。このモジュールは、プログラム可能なステージを使用して正確なアライメントを可能にし、各アライメントに正確な再現性を提供します。また、高精度を確保するために、明るいフィールドと暗いフィールドの両方の画像処理を備えた高解像度の光学機器を備えています。光学ツールには、X座標とY座標の両方のデジタル線形エンコーダと単軸Z軸制御を備えたマルチレンズ設計と画像投影アセットが含まれています。LEICA MIS 200には、包括的なソフトウェア環境も含まれています。このソフトウェアは、ウェーハとマスクを正確に評価するためのツールを提供します。平面画像と3D画像の両方で開いた欠陥と閉じた欠陥の両方を検出および分析し、あらゆる欠陥の影響を受ける領域を特定できます。また、このソフトウェアは完全な欠陥ロギングモデルを提供し、これらの結果を断面イメージ、輪郭マップ、散布プロットなど、さまざまな形式で表示することができます。この装置は容易な維持管理のために設計されています。これは、迅速かつ効果的に問題を診断し、トラブルシューティングするためのオンボード診断が装備されています。また、ユーザーはチュートリアルやヘルプのドキュメントにアクセスして、システムの構成に必要なサポートをユーザーの仕様に提供することもできます。さらに、必要に応じてユニットを継続的に最適化できる自動校正および最適化機能を備えています。全体として、VISTEC MIS 200はマスクおよびウェーハの点検のための独特で、強力な機械を提供します。高度な光学、ソフトウェア、メンテナンス機能を備えたこのツールは、この重要な業界で比類のないパフォーマンスと信頼性を提供するように設計されています。