中古 LEICA / VISTEC LWS 2000 #9115819 を販売中

LEICA/VISTEC LWS 2000マスク&ウェーハ検査装置は、あらゆるフォトマスクやウェーハを正確に検査するために設計された汎用性の高い高性能機器です。高精度500mm×500mmステージの自動マスクアライナー（AMat）と高解像度低歪みカメラを搭載し、高品質な画像処理を実現しています。LEICA LWS 2000はまた、単一のフレームで大きな視野をキャプチャすることができるハイエンドスキャンヘッドを備えています。統合された光学ユニットは、イメージング中にウェーハ/マスクを正確に揃えるように最適化されており、正確な測定を保証します。オンボードアライメントソフトウェアにより、ユーザーはフォーカスを迅速かつ正確に確立および調整できます。Mask&Wafer Inspectionマシンは、直感的なグラフィカルユーザーインターフェイスを備えており、取得した画像を分析するためのさまざまな強力なアルゴリズムに簡単にアクセスできます。統合された計測ツールを使用して、リソグラフィープロセスを評価し、パターンエッジまたはパターンエラーなどの欠陥を検出し、パターンの重要な寸法を正確に推定できます。高度なステッチと自動認定ツールにより、ユーザーはウェーハの資格取得に必要なさまざまなパラメータを迅速に評価できます。このツールは、色、欠陥、粒子、異常、異物、およびその他の変数を検出することもできます。それは任意の幾何学および特徴の信頼できる欠陥の検出を可能にする統合された照明の選択の十分に構成可能なセットが装備されています。さらに、アセットはさまざまな統合アルゴリズムを活用して、迅速な欠陥検出とレポートを提供します。Lightning-Fastイメージング機能により、大規模なウェーハ領域を迅速かつ効率的に分析できます。さらに、VISTEC LWS 2000は、ウェーハの特徴を正確に分析し、欠陥を特定し、特定のパラメータを測定するために使用できる強力な数学指向ツールを提供しています。ユーザーはこれらの測定を絶対、相対、または混合モードで実行することができ、さらなる分析と改善を可能にします。さらに、統合されたパターン認識アルゴリズムは、複雑な設計構造の異常を検出することができます。このモデルは、正確なウェーハ測定と欠陥検出を必要とするあらゆるアプリケーションに最適です。