中古 LEICA / VISTEC LDS 3000 #293628458 を販売中

LEICA/VISTEC LDS 3000は、高品質の半導体デバイスを製造するために設計された自動レーザーマスクおよびウェーハ検査装置です。独自の光学技術と高度なイメージングシステムにより、フォトマスクやウェーハの欠陥のない検査・修復を実現します。3つの光学パスを備えており、それぞれ異なるタスクを実行するように設計されています。1つ目の経路は、マスクやウェーハを低倍率で検査するために使用され、1マイクロメートル程度の小さな欠陥を検出することができます。2番目のパスは、高倍率で欠陥を検査するために最適化され、0。2マイクロメートルまでの欠陥を解決することができます。3番目のパスは、非常に高い倍率で欠陥の解像度を高めるために最適化されており、0。1マイクロメートルの小さな欠陥を検出することができます。LEICA LDS 3000は、マスク上の結節とウェーハ上の粒子の2種類の欠陥を識別することができます。バックサイドアライメント、フォトマスクのミスアライメント、パーティクル汚染、欠損素子などの光学的欠陥、反射率の急激な変化による欠陥を検出できます。また、薄い要素/厚い要素、不足している要素、シャッターエラー、およびずれによる欠陥を検出することもできます。また、分光イメージング、偏光イメージング、差動イメージングなどの光検査技術を搭載し、欠陥検出能力を最大化しています。VISTEC LDS 3000は、交換可能な絞りツールと直感的なユーザーインターフェイスを備えた完全自動化マシンです。自動化された検査モードと手動検査モードの両方で使用できます。自動検査モードは生産に最適ですが、マニュアルモードは細かい欠陥の小さなサブセットを識別するのに最適です。LDS 3000にはマスクデータを格納する機能があり、将来のデータ分析を可能にし、全体の生産時間を短縮するのに役立ちます。さらに、アセットはマスクとウェーハの両方のアライメントモデルを備えています。これにより、作業中のマスクとウェーハの迅速なセットアップとタイトな追跡が可能になります。LEICA/VISTEC LDS 3000は、全体的な生産コストを最小限に抑え、市場投入までの時間を短縮し、品質管理を最大化するように設計されています。その高速処理時間と高度なイメージング機能により、現在市販されている最先端の検査システムの1つです。この装置は、フォトマスクやウェーハの低レベル欠陥の効率的かつ信頼性の高い検出を可能にするため、スペースが限られた高性能デバイスの製造に最適です。