中古 LEICA / VISTEC INS 3300 #9200028 を販売中

LEICA/VISTEC INS 3300マスク&ウェーハ検査装置は、半導体ウェーハ、マスク、フラットパネルなど、さまざまな基板の欠陥を検出および評価するための強力で信頼性の高いツールです。高度な光学サブミクロン分解能と自動マッピングおよび解析機能を備えているため、検出が困難な非常に小さな欠陥や低コントラスト領域の検出に最適です。このシステムは、高スループットの生産環境向けに設計されており、1時間あたり数百のサンプルを処理できます。これは、自動欠陥特性評価、自動パターン識別、自動欠陥検出など、さまざまな自動検査タスクを備えています。このユニットの高解像度イメージング機能により、検査対象の基板上のデバイスおよび相互接続機能の全範囲を検査できます。マシンはいくつかのコンポーネントで構成されています。マスク配置ツールを使用すると、検査を設定してマスク上の構造を識別し、対応する画像と比較することができます。Workbenchは、すべての検査タスクを管理するための制御インターフェイスです。自動化されたスキャンポジショナーは、視野内のマスクの正確で高速な動きを提供します。このツールの検査技術は、複数の「ホワイトライト」照明技術から赤外線、および特殊な照明モードまでさまざまです。このアセットには、ステンシルおよびはんだボール欠陥の自動検出を可能にする特殊なアルゴリズムも装備されています。また、積層金型の積層検査を行うようにモデルを構成することができます。この装置は、非半導体材料から超高感度の組み込み抵抗まで、さまざまな基板を取り扱うように設計されています。この汎用性により、このシステムは、バイオメディカル、ナノテクノロジー、航空宇宙、光学などの業界で幅広い用途に適しています。検査結果はユニットのユーザーインターフェイスに表示され、結果の直感的でインタラクティブなグラフィカル表示が表示されます。これには、簡単に公開できる欠陥図と、テストパラメータと欠陥結果に関する詳細情報を提供する自動欠陥レポート機能が含まれます。LEICA INS 3300マスク&ウェーハ検査機は、欠陥検出と分析のための高度で信頼性の高いツールです。自動化された機能と高解像度イメージング機能により、さまざまな基板で非常に小さな欠陥や低コントラスト領域を検出できます。さらに、ツールのユーザーインターフェイスは、欠陥の直感的でインタラクティブなグラフィカル表現を提供し、欠陥分析を行い、簡単で合理的なタスクを報告します。