中古 LEICA / VISTEC INS 3300 2ei #9206797 を販売中

ID: 9206797
Wafer inspection system.
LEICA/VISTEC INS 3300 2eiは、半導体業界の最高水準の品質保証を満たすように設計された最先端のマスクおよびウェーハ検査装置です。半導体材料の開発段階から試作段階、製造段階まで、精密な欠陥解析を行う先進的な自動検査技術です。高度な光学・イメージング技術により、マスクやウェーハ表面のデジタルイメージを高速にスキャン・処理することができます。さまざまなシステムと互換性があり、最大17。6mmの視野で包括的な4D検査機能を提供します。このソフトウェアは、統合されたAIおよびパターン認識技術を備えており、パターン認識と欠陥検出/分類を自動化できます。高度な3Dステッチ技術を活用して、ユーザーはサブミクロンの精度でパターンの完全なトップダウンおよびサイドビュー画像をキャプチャすることができます。LEICA INS 3300 2eiはまた、欠陥検出の最高の精度と信頼性を確保するために、高感度イメージングおよび解析ツールの広い範囲を提供しています。高速、低雑音検査プロセスにより、最小限の検出時間を確保します。高度なアルゴリズムにより、欠陥のローカライズ、サイドビュー解析、測定などの包括的な欠陥解析が可能です。ユーザーフレンドリーなグラフィックインターフェイスは、ユニット設定を完全に制御し、さまざまな要件を満たすプロセスパラメータの設定を可能にします。ソフトプログラマブルパラメータは、プロセスの最適化に最適で、製品ミックスの変更に迅速に適応できます。機械はまた完全なトレーサビリティのためのライン監視システムに統合することができます。要約すると、VISTEC INS 3300 2eiは、特に半導体産業のために設計された高度なマスクおよびウェーハ検査ツールです。強力なイメージングと解析機能と包括的な欠陥解析の組み合わせにより、高品質の生産プロセスに最適です。自動プログラミング可能な機能により、資産パフォーマンスの設定と維持が容易になり、ライン監視システムに統合されるため、トレーサビリティに適しています。
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