中古 LEICA / VISTEC IMS 2000 #9283662 を販売中

LEICA/VISTEC IMS 2000は、半導体製造プロセスにおける構造物の形状と地形の完全な評価を行うために設計されたマスクおよびウェハ検査装置です。高解像度のイメージング機能と、1マイクロメートルの表面欠陥とマスクアーティファクトの両方を検出する機能を備えています。その高度なソフトウェア機能により、光学測定と自動化されたプロセス制御の両方が可能になり、幅広い測定オプションが用意されています。このシステムは、動的ランダムアクセスメモリ（DRAM）やロジックチップなどの高密度回路領域の欠陥の検出に特に適しています。本装置は、画像取得装置、顕微鏡ステージ、制御装置の3つの主要部品で構成されています。画像取得ツールは、充電結合デバイス（CCD）カメラと顕微鏡対物レンズで構成されています。ナノメートルスケールまでの構造物の高解像度イメージングが可能です。顕微鏡ステージはX-Y-Zのリニアステッピングメカニズムで構成されており、欠陥検出のための正確で繰り返し可能な表面スキャン経路を提供します。また、サンプルや試料の自動積み下ろしも可能です。最後に、制御アセットには必要なすべての画像処理および自動化機能が含まれており、ユーザーは必要に応じて機器を簡単かつ迅速に設定できます。LEICA IMS 2000は、ウェーハとマスクの高解像度デジタルイメージと、欠陥検出と測定のためのこれらの画像の後処理の両方を生成することができます。イメージングモデルには「スマートフィルター」技術が搭載されており、表面欠陥とマスクアーティファクトの両方を自動検出できます。一方、顕微鏡ステージは、1ナノメートルまでの精度で、フラット場の地形測定が可能です。さらに、この顕微鏡は複雑なグリッドとパターンでプログラムすることができ、自動欠陥検出とウェハ登録を行うことができます。VISTEC IMS 2000は、信頼性の高い検査性能を提供するように設計されており、完全な分析を短時間で提供します。これにより、高度な半導体製造アプリケーションの品質保証とプロセス制御に最適です。直感的なソフトウェアインターフェイスと信頼性の高い自動化された機能により、いくつかの面倒で長時間の作業が簡素化され、生産効率が向上します。