中古 LEICA INS 3300 #9285724 を販売中

LEICA INS 3300は、小型電子部品の試験および検査において、高解像度で正確な画像処理性能を提供するように設計された最先端のマスクおよびウェーハ検査装置です。ウェーハやマスク検査の高性能画像ニーズに合わせた先進的な光学設計を特徴としています。高解像度光学系、多露光イメージング、および最適化されたソフトウェアを組み合わせることで、優れたイメージング性能を実現し、TCO（総所有コスト）を最小限に抑えた最高精度を実現します。このシステムには、充電結合デバイス（CCD）や補完的な金属酸化物半導体（CMOS）イメージャなどの複数の検出器が含まれており、高解像度のイメージング性能を提供します。イメージングレンズの範囲は、絞り範囲がf/2。8-5。0の4倍の対物レンズと、絞り範囲がf/8からf/13の10倍の対物レンズがあります。業界標準のepi-fluorescence構成で設計されたユニットには、Vマウントイメージングチャンバー、マスターコントロールモジュール、コントローラーユニット、イメージング制御ソフトウェアなどの堅牢な制御プラットフォームが装備されています。LEICA INS3300は、多数のイメージングおよび検査機能を提供します。特徴測定、画像キャプチャ、パターン認識、ウェーハアライメント、スペクトル解析、パターン比較、欠陥検出、欠陥解析などがあります。さらに、半導体デバイス検査用に特別に設計されたアルゴリズムを搭載しており、マスク、ウェーハ、およびパッケージ製造プロセスの欠陥をより正確に識別することができます。このツールはまた、自動校正ルーチンと自動欠陥認識を備えており、欠陥の検出の効率と精度を向上させます。INS 3300は、半導体の計測アプリケーションでの使用にも適しています。自動化されたフィーチャー測定機能と、線幅測定、プロセス中心の測定、統計測定に最適化されたアルゴリズムを備えています。優れた計測性能のために設計されたアセットには、迅速なデータ分析、可視化、レポート作成のためのツールも装備されています。INS3300は、コンパクトなフォームファクタで高分解能性能を提供し、さまざまな半導体検査および計測アプリケーションに最適なソリューションです。このモデルは、パフォーマンスを最大限に高めるために設計されたフルスイートの機能を提供し、解析とレポートの改善のために最適化されたソフトウェアを提供し、半導体デバイスの検査および計測において比類のない性能を必要とするものに最適です。