中古 KRAUTKRAMER USK-7 #293667698 を販売中

KRAUTKRAMER USK-7は、半導体製造プロセスで使用される強力で技術的に高度なマスクおよびウェハ検査装置です。さまざまな半導体製造プロセスで使用されるマスクやウエハーを分析および検査するための高度な機能と機能を備えています。このシステムは、高解像度顕微鏡ステーションと印刷可能、光学、電子ビーム（EB）マスクなどのさまざまな種類のフォトマスクの自動画像処理を利用しています。そのソフトウェアは、ライン幅、面積、チップ受諾のためのオープン/ショート欠陥などの重要な寸法の欠陥を検出することができます。さらに、様々な半導体パターンを検査し、マスク関連断層、計測関連断層、歩留まり関連断層など、さまざまな断層タイプの詳細な分類と分析を提供することができます。USK-7は高度な自動運転機能で設計されており、信頼性の高い高速検査と品質分析を保証します。使いやすいグラフィカルユーザーインターフェイス（GUI）は、直感的なインターフェイスをユーザーに提供し、便利な欠陥レビューとレポート機能を提供します。このユニットは、最適な欠陥検出を確保するために、リングライト、ダークフィールド、偏光などのさまざまな照明構成を提供しています。さらに、紫外線（UV）光学系は、より高いコントラストと解像度を提供します。また、ウェーハイン/ウェーハアウトオートメーション、ウェーハの追跡とトレース、アライメントワークフロー、フルフィールドと差動比較、ディープトレンチの処方マスク検査、高いアスペクト比の機能、電気メッキ銅線など、さまざまな自動化機能を備えています。その特許取得済みの検査レシピは、高解像度、自動マスク認識と高速欠陥検出を提供します。さらに、精密光学系とモーション駆動制御ユニットを組み合わせることで、信頼性と詳細な検査が可能になり、プロセスのスループットが容易になり、サイクルタイムが短縮されます。KRAUTKRAMER USK-7は、半導体製造におけるマスクおよびウェハ検査の最も要求の厳しい要件を満たすように設計された、信頼性の高い先進的なマスクおよびウェハ検査ツールです。その高度な機能と機能は、マスクとウェーハの検査、分類、分析において比類のないレベルの信頼性と精度を提供し、製造プロセスの信頼性の高いパフォーマンスを保証します。