中古 KLA / TENCOR UVision 5 #293586464 を販売中

KLA/TENCOR UVision 5は、製造前に半導体材料の異常を検出するように設計された高度な自動マスクおよびウェーハ検査装置です。高解像度の光学系と特許取得済みの検査アルゴリズムを使用して、マスクやウェーハの表面の非常に細かいディテールを検査し、傷や汚染などの欠陥を検査できます。KLA UVision 5は、測定感度と精度を向上させ、最も微妙なマスクやウェーハの欠陥を検出することができます。TENCOR UVision 5は、高価なシステム校正や追加コンポーネントを必要とせずに、複数の高解像度環境検出器を使用してウェーハやマスクを調査します。UVision 5は、特殊な多軸モーションコントロールとイメージングユニットを使用して、マクロとマイクロスケールの両方の表面の正確な測定と分析を提供します。さらに、KLA/TENCOR UVision 5は、ディープラーニングと人工知能技術を使用して欠陥や汚染物質を検出し、区別します。KLA UVision 5の自動イメージングおよび測定システムは、破片、ほこり、その他の汚染物質を含む汚染された粒子を検出し、半導体デバイスの性能に悪影響を及ぼす可能性があります。シリコン、ガラス、オリマーなど、さまざまな素材で作られたウェーハの評価に使用できます。このツールは、高解像度イメージング技術と画像融合機能を利用して、マスクまたはウェーハのあらゆる部分の詳細な概要を提供します。このアセットにはユーザーフレンドリーなインターフェイスも含まれており、オペレータはデータにすばやくアクセスし、マスクまたはウェーハ検査をカスタマイズすることができます。また、マージン分析を提供し、オペレータは検査前と検査後の結果を比較して品質の一貫性を確保することができます。このモデルは、フルマニュアルまたはセミオートモードで操作でき、さらなる研究のために品質または製造バリエーションに関連するサンプルをキャプチャするように設計されています。TENCOR UVision 5の自動検査装置は、トレーサビリティと規制基準の遵守をサポートします。統合されたコンプライアンスおよびデータトラッキングソフトウェアが付属しているため、システムによって収集されたすべてのデータが中央サーバーユニットに安全に保存されます。UVision 5では、パターン認識や統計プロセス制御などの検査結果の分析も可能です。機械の高度な機能は、半導体業界の高い需要を満たすために必要な可視性、データ信頼性、および情報精度を提供します。