中古 KLA / TENCOR Surfscan SP2 #9308728 を販売中

KLA/TENCOR Surfscan SP2 Mask and Wafer Inspection Equipmentは、半導体製造プロセスにおけるマスクおよびウェーハの検査において、高性能で費用対効果の高いソリューションです。市場をリードする画像取得および検査アルゴリズムを備えたKLA Surfscan SP2は、製品の正確性と品質を保証します。高度な統合ツールを備えたTENCOR SURFSCAN SP 2は、ダイツデータベース測定、歩留まり解析、レイアウトレビュー、欠陥解析をサポートします。このシステムには、デュアル光源を備えた大規模な高分解能エリアスキャンセンサー、分散オブジェクトアーキテクチャ、自動特徴認識、エキスパートによる検査システム、欠陥分類、インテリジェント欠陥印刷が含まれています。KLA SURFSCAN SP 2の分散オブジェクトアーキテクチャにより、複雑なユニットパラメータの設定、関連機器との通信の管理、サードパーティ製コンポーネントを含む機械機能の拡張が容易になります。テンプレートマッチングエンジンを内蔵し、重要な機能を識別して、正しい機能配置、向き、スターバーストパラメータ、構造解析の検査を行うことができます。エキスパートのユーザーが作成した検査システムは、迅速で一貫した信頼性の高いプロセス監視を提供します。KLA/TENCOR SURFSCAN SP 2はまた、階層統計ライブラリを備えた包括的な欠陥分類階層を提供し、堆積残留物や粒子などの非本質的な特徴に関する欠陥を上流のソース欠陥と結び付けます。このツールの自動ウェーハマッピングと画像再生機能は、効率的なインラインまたはポストプロセス分析と関心のある欠陥の分離を容易にします。インテリジェントな欠陥印刷により、さまざまなインクジェットおよびレーザープリンターメディアで高コントラストの欠陥画像を得ることができます。画像安定化、自動エッジ検出、イメージスタッキング、スマートズーム、イメージオーバーレイなどの追加機能により、アセット機能が強化され、検査精度が最大化されます。また、Surfscan SP2は、Windows、 Linux、 UNIX、 Sun Solarisオペレーティングシステムなど、さまざまな環境でプロセス管理レポートを提供します。全体として、SURFSCAN SP 2マスクおよびウェーハ検査モデルは、パターン化された薄膜研究生産アプリケーション向けの信頼性が高く、費用対効果の高いソリューションです。TENCOR Surfscan SP2は、高度な統合ツール、エキスパートユーザーが作成した検査システム、完璧な画像精度、およびインラインまたはポストプロセス分析により、あらゆるパターン化された薄膜製造プロセスにとって真に強力なソリューションです。