中古 KLA / TENCOR Surfscan SP2 #9228176 を販売中
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タップしてズーム
販売された
ID: 9228176
ヴィンテージ: 2006
Particle measurement system, 12"
P/N: 0074965-000
Sensitivity modes includes:
Standard throughput inspection mode
High throughput inspection mode
High sensitivity inspection mode
Advanced illumination optics supports following mode:
Normal illumination
Oblique illumination
Enables qualification of current and next-generation substrates:
SOI
Strained SOI
Strained SI
Optimized sensitivity
Throughput: - < 37nm defect sensitivity on polished bare silicon
Qualification and monitoring of process tools: 90, 65, & 45 nm technology nodes
Components included:
UV Laser
Defect map and histogram with zoom
Micro view measurement capability
Surf image
Real-time defect classification (RTDC)
Operating system: Microsoft Windows XP
Book on board
Operations manuals
Puck handling: 300/200mm
Equipped with powder coat painted panels
Phoenix dual FIMS vacuum wafer handler, 12" (pp)
Secondary UI for bulkhead installation
Configured for MCCB (us/eu) power inlet
Configured for IC/OEM mfg surf quality recipe
Optical filter
Enhanced XY coordinates:
Standard classification
LPD-N classification
LPD-ES classification
Grading and sorting
20 Degree
40 Degree
Rough films
Enabled:
Haze
Haze normalization
Haze analysis
Haze line classification
IDM SP2
Edge exclusion: 2mm
4 Color light tower (RYGB)
Gem/secs and HSMS
E39 Object services:
E40 Process job management
E94 Control job management
E90 Substrate tracking
E87 Carrier management services (based on e39)
Control jobs (E94 Based on E39)
Substrate tracking (E90 Based on E39)
(2) Advantage radio frequency (RF) carrier ID readers:
Identifies name of carrier (FOUP)
Intended for use with phoenix handler and isoport loadports
Reader required for each FOUP loadport
2006 vintage.
KLA/TENCOR Surfscan SP2は、半導体製造業向けに設計されたマスク&ウェハ検査装置です。集積回路などのマイクロエレクトロニクスデバイスを製造するための画質検査、パターン忠実度、詳細欠陥検査が可能です。これは、最高品質のマスクとウェーハイメージを確実に作成するのに役立つ比類のない画像処理速度と解像度を提供します。KLA Surfscan SP2は、高速処理のための高性能コンピュータユニットと組み合わせた先進的な光学およびハイエンド検出器のセットによって駆動されます。LCT (Laser Interferometric Confocal Technology)を使用して、サブピクセルサイズの欠陥を捕捉および分析します。また、特許取得済みの3Dスキャンレンズと高精細画像検出器を使用して検査の精度を高めています。TENCOR SURFSCAN SP 2には、Al2O3、 InP、 SiGeなどのさまざまなウェーハ材料の校正基準が設定されています。これにより、検査中に最適なイメージング結果が得られるようになります。また、マスクやウェーハ上のさまざまな異常な3Dパターンを検出することができ、微妙な欠陥やバリエーションの検出を改善することができます。KLA/TENCOR SURFSCAN SP 2は、包括的なマスクおよびウェーハ検査ソリューションを提供するように設計されています。これには、モワールのパターン、フィデューシャル、CDパターン、および0。12ミクロンまでのマイクロパターンを検査する機能が含まれます。これらの機能はすべてリアルタイムで検査することができ、検査後の分析の必要性を排除します。さらに、このアセットは、酸化物および粒子欠陥、薄化または厚化、およびその他のサブミクロンフィルム欠陥を検出することができます。さらなる分析のために、TENCOR Surfscan SP2には、拡大鏡、エリアセレクト、ズーム、ガイドラインの重ね合わせ、プロファイル測定など、多数の画像機能が搭載されています。また、色反転、タイムスタンプ、フォーカスレベル、エッジ検出などのさまざまなフィルタも含まれています。これらの各機能は、検査プロセスの精度と速度を向上させるように設計されています。全体として、Surfscan SP2は、半導体製造のための強力で信頼性の高いマスクおよびウェハ検査モデルです。業界をリードする速度と解像度を提供し、幅広い画像解析および検査タスクに対応しているため、品質管理と生産の最適化に最適です。
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