中古 KLA / TENCOR Surfscan SP2 #9228176 を販売中

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ID: 9228176
ヴィンテージ: 2006
Particle measurement system, 12" P/N: 0074965-000 Sensitivity modes includes: Standard throughput inspection mode High throughput inspection mode High sensitivity inspection mode Advanced illumination optics supports following mode: Normal illumination Oblique illumination Enables qualification of current and next-generation substrates: SOI Strained SOI Strained SI Optimized sensitivity Throughput: - < 37nm defect sensitivity on polished bare silicon Qualification and monitoring of process tools: 90, 65, & 45 nm technology nodes Components included: UV Laser Defect map and histogram with zoom Micro view measurement capability Surf image Real-time defect classification (RTDC) Operating system: Microsoft Windows XP Book on board Operations manuals Puck handling: 300/200mm Equipped with powder coat painted panels Phoenix dual FIMS vacuum wafer handler, 12" (pp) Secondary UI for bulkhead installation Configured for MCCB (us/eu) power inlet Configured for IC/OEM mfg surf quality recipe Optical filter Enhanced XY coordinates: Standard classification LPD-N classification LPD-ES classification Grading and sorting 20 Degree 40 Degree Rough films Enabled: Haze Haze normalization Haze analysis Haze line classification IDM SP2 Edge exclusion: 2mm 4 Color light tower (RYGB) Gem/secs and HSMS E39 Object services: E40 Process job management E94 Control job management E90 Substrate tracking E87 Carrier management services (based on e39) Control jobs (E94 Based on E39) Substrate tracking (E90 Based on E39) (2) Advantage radio frequency (RF) carrier ID readers: Identifies name of carrier (FOUP) Intended for use with phoenix handler and isoport loadports Reader required for each FOUP loadport 2006 vintage.
KLA/TENCOR Surfscan SP2は、半導体製造業向けに設計されたマスク&ウェハ検査装置です。集積回路などのマイクロエレクトロニクスデバイスを製造するための画質検査、パターン忠実度、詳細欠陥検査が可能です。これは、最高品質のマスクとウェーハイメージを確実に作成するのに役立つ比類のない画像処理速度と解像度を提供します。KLA Surfscan SP2は、高速処理のための高性能コンピュータユニットと組み合わせた先進的な光学およびハイエンド検出器のセットによって駆動されます。LCT (Laser Interferometric Confocal Technology)を使用して、サブピクセルサイズの欠陥を捕捉および分析します。また、特許取得済みの3Dスキャンレンズと高精細画像検出器を使用して検査の精度を高めています。TENCOR SURFSCAN SP 2には、Al2O3、 InP、 SiGeなどのさまざまなウェーハ材料の校正基準が設定されています。これにより、検査中に最適なイメージング結果が得られるようになります。また、マスクやウェーハ上のさまざまな異常な3Dパターンを検出することができ、微妙な欠陥やバリエーションの検出を改善することができます。KLA/TENCOR SURFSCAN SP 2は、包括的なマスクおよびウェーハ検査ソリューションを提供するように設計されています。これには、モワールのパターン、フィデューシャル、CDパターン、および0。12ミクロンまでのマイクロパターンを検査する機能が含まれます。これらの機能はすべてリアルタイムで検査することができ、検査後の分析の必要性を排除します。さらに、このアセットは、酸化物および粒子欠陥、薄化または厚化、およびその他のサブミクロンフィルム欠陥を検出することができます。さらなる分析のために、TENCOR Surfscan SP2には、拡大鏡、エリアセレクト、ズーム、ガイドラインの重ね合わせ、プロファイル測定など、多数の画像機能が搭載されています。また、色反転、タイムスタンプ、フォーカスレベル、エッジ検出などのさまざまなフィルタも含まれています。これらの各機能は、検査プロセスの精度と速度を向上させるように設計されています。全体として、Surfscan SP2は、半導体製造のための強力で信頼性の高いマスクおよびウェハ検査モデルです。業界をリードする速度と解像度を提供し、幅広い画像解析および検査タスクに対応しているため、品質管理と生産の最適化に最適です。
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