中古 KLA / TENCOR Surfscan SP2 #293625532 を販売中

KLA/TENCOR Surfscan SP2は、半導体製造のために設計された高度なマスクおよびウェーハ検査装置です。半導体半導体ウェーハ、マスク、フォトマスクを高精度かつ再現性のある検査を行うシステムです。KLA Surfscan SP2ユニットは、1ナノメートル未満の空間分解能で100ナノメートルのサイズの欠陥を検出することができます。ウェーハ上の複数点を同時に検査できる6軸モーションマニピュレータを搭載しています。TENCOR SURFSCAN SP 2ツールは、複数のイメージセンシング技術を使用して、さまざまな半導体マスクやウェーハの欠陥を検出します。これらの技術には、ブライトフィールドイメージング、ダークフィールドイメージング、光学顕微鏡などがあります。Brightfield imagingはバイナリマスクやウェーハの検査に使用され、darkfield imagingは露出した機能やフォルトの分離に使用されます。光学顕微鏡により、パターン化された半導体ウェーハの欠陥検査が可能です。また、ユーザーが簡単にプロービングパラメータを入力したり、テストパラメータを選択したり、さまざまな画像タイプの表示範囲を設定したりすることができる統合されたユーザーインターフェイスを備えています。ソフトウェアは、より正確な結果を得るために、異なる画像のテストパラメータを自動的に調整することもできます。また、ウェーハやマスクの不審な領域を手動で検査できるビューイングモードも搭載しています。SURFSCAN SP 2装置は、6軸モーションマニピュレータを使用して、ウェーハまたはマスクの複数のポイントを正確に迅速かつ効率的にスキャンします。このシステムでは、ユーザーは単一のスキャンで複数の測定を行うこともできます。さらに、このユニットは、高度な空気管理機により、異なるサンプル間の相互汚染を最小限に抑えるように設計されています。KLA SURFSCAN SP 2ツールはユーザーフレンドリーに設計されており、直感的なグラフィカルユーザーインターフェイス（GUI）をユーザーに提供します。GUIを使用すると、キャプチャした画像を簡単に確認したり、アラームを設定したり、操作パラメータを監視したりできます。このアセットには、署名解析や分類、フォルト分離、高度な欠陥解析など、欠陥を迅速かつ正確に分析できる多数の組み込み機能も含まれています。全体的に、KLA/TENCOR SURFSCAN SP 2は、高精度と再現性のために設計された高度なマスクおよびウェーハ検査モデルです。複数の画像センシング技術を活用して、1ナノメートル以下の空間分解能で欠陥を検出するとともに、6軸モーションマニピュレータと直感的なGUIにより、効率的なスキャンとデータ分析を実現しています。