中古 KLA / TENCOR Surfscan SP2 #293603304 を販売中

KLA/TENCOR Surfscan SP2は、半導体マスクおよびウェーハ表面の欠陥を正確に検出するために設計された最先端のマスクおよびウェーハ検査装置です。業界をリードする光学系、独自のアルゴリズム、高精度エレクトロニクスを搭載し、最も困難なマスクやウェーハの欠陥を迅速に特定して測定します。KLA Surfscan SP2システムは、ブロードバンドスキャンイメージング（BSI）とエッジコントラストイメージング（ECI）の2つの相補的な検出技術を組み合わせています。BSIは、ウェーハまたはマスクの2D画像全体を微細な解像度でキャプチャする高分解能のフルフィールドテレセントリックイメージング技術です。小さな特徴の欠陥を敏感に検出し、複雑な背景を持つパターンの正確な測定と識別を可能にします。ECIは、超小型構造のエッジコントラストを正確に測定するために、小さな振動および/または横方向の動きを利用して識別された欠陥特性に焦点を当てています。この技術は、個々の欠陥の精密なローカライズと測定を可能にし、欠陥の種類とサイズの正確な定量化を可能にします。このユニットは最大限の柔軟性を目指して設計されており、光電子測定、CD-SEMおよびスペーサイメージング、臨界寸法測定、欠陥検査など、さまざまなアプリケーションに対応できます。完全に自動化されたマシンは、一貫した効率的な検査プロセスを可能にし、ユーザーはさまざまなウエハとマスクの種類の欠陥検出基準をカスタマイズすることができます。TENCOR SURFSCAN SP 2は、高倍率光学イメージング、ローカライズ検査、自動フィーチャー認識などの高度なイメージングおよび表示機能を提供します。洗練された欠陥認識アルゴリズムを備えた動的欠陥検出基準を提供し、ユーザーは最も適切な検査戦略とカスタマイズされた設定を選択できます。自動化された欠陥分類、手動レビュー、およびダイレベル欠陥マーキングにより、このツールは効率的で包括的な検査および欠陥レビュープロセスを提供します。また、デバイスレベルのデータ収集による自動測定モデルや、自動欠陥追跡および検査後の分析など、欠陥検出プロセスを合理化するために設計されたさまざまな機能も備えています。このような機能により、ユーザーは検査サイクルを短縮し、ウェーハまたはマスクの潜在的な欠陥を迅速に特定できます。結論として、TENCOR Surfscan SP2は半導体産業のために設計された先進的で汎用性の高い検査装置です。微細なマスクやウェーハ欠陥の検出・解析に最適なさまざまな機能と機能を備えており、最も困難な半導体表面でも欠陥を検出・測定することができます。