中古 KLA / TENCOR STARlight 301 #9049801 を販売中

KLA/TENCOR STARlight 301は、半導体メーカーの厳しい精度要件を満たすように特別に設計された洗練されたマスクおよびウェハ検査装置です。このシステムには、光検出、リアルタイム編集、レビュー、欠陥解析、およびレポート作成ツールが含まれており、最も厳しいプロセス制御を確実に遵守できます。KLA STARlight 301は、パターン基板の検査に比類のない精度と性能を提供します。その先進的な光学サブシステムは、優れた光学部品と高解像度のイメージングユニットを使用して、サンプルの高品質の画像をキャプチャしてデジタル表示します。これらの画像は欠陥の存在のために正確に分析することができ、メーカーは最適な歩留まりを達成することに自信を持っています。マシンのリアルタイム編集機能により、基板の各領域を即座に検査できます。高度な欠陥解析ツールを使用して、結晶成長や接着の問題など、潜在的な欠陥を特定して分析することができます。レポート機能により、プロセス内の結果の監視と追跡、欠陥レベルの追跡、潜在的な問題の報告が容易になります。TENCOR STARlight 301は、ディープスキャンも可能です。これは、材料や基板内に深く埋まっている可能性のある欠陥を検出するために設計されたプロセスです。これは、半導体ウェーハの検査で特に有用であり、そのサイズや位置によって欠陥を検出することが困難になる場合があります。STARlight 301は容易にスケーラブルで、数百のウェーハまたは複数の基板を同時に検査することができます。非常に効率的で、正確な結果をもたらす一方で、最高レベルのスループットを提供します。さらに、このツールは優れたカスタマーサービスと妥協のない信頼性でバックアップされています。結論として、KLA/TENCOR STARlight 301は、基板およびウェーハの検査に優れたイメージングおよび分析機能を提供します。半導体メーカーの厳しい要求を満たすために必要な精度、性能、欠陥解析ツールを提供します。そのスケーラブルで効率的な設計により、迅速なスループットと信頼性の高い結果が保証されます。