中古 KLA / TENCOR SP3 #293648610 を販売中

ID: 293648610
ヴィンテージ: 2013
Wafer surface inspection system (3) Wafer loading ports Equipment Front End Module (EFEM) Integrated console 2013 vintage.
KLA/TENCOR SP3は、半導体ウェーハおよびマスクの欠陥を検出するために使用されるマスクおよびウェーハ検査装置です。このシステムはマシンビジョン技術を利用しており、検査、欠陥レビュー、歩留まり強化、プロバーオートメーション機能が含まれています。KLA SP-3は、ブライトフィールドとダークフィールドのイメージングと、ウェハを異なるイメージング位置に移動するロボットアームを組み合わせています。従来の2Dマスク検査システムが見落とす可能性のある欠陥を検出するように設計されています。TENCOR SP 3は、ラインエッジの粗さと傷を測定するための明るいフィールドおよびダークフィールドイメージングを利用しています。ブライトフィールドイメージングでは、ウェーハの画像を拡大して、ミクロンレベルのラインエッジの粗さや複数の異常な表面欠陥を検出します。ダークフィールド画像処理は、異物やチップなどの潜在的な欠陥を検出するのに役立ちます。また、均一な露出とテクスチャライトを備えた洗練された照明器を備えており、正確なレジストパターン画像を保証します。このツールには、精密なイメージングを保証するためのファインアライメントソフトウェアが装備されています。また、ロボットアームを使用してウェーハを最適な表示位置に回転させ、より良いイメージングを実現するアセットレベルのオートメーション機能も備えています。これにより、モデルはウェーハ全体の欠陥を迅速かつ正確にスキャンすることができます。TENCOR SP-3はコンパクトな設計で、あらゆるウエハ加工ラインに簡単に収まることができます。標準のイーサネット、USB、およびRS232ポートに接続し、他のシステムと統合します。疎水性、サーフィン性、狭いパターンなど、さまざまな種類の欠陥を高感度で検出することができます。欠陥が検出されると、システムはそのタイプと場所に関する正確な情報でデータを記録します。KLA SP3には、他のシステムでは見えないタイプの欠陥を検出できる歩留まり強化アルゴリズムも含まれています。これにより、ユーザーは収量を最大化し、コストを削減することができます。このユニットは使いやすく、検査データを表示するためのユーザーフレンドリーなグラフィカルユーザーインターフェイスが含まれています。全体として、KLA SP 3は、欠陥を正確に検出し、製品歩留まりを向上させる高度なマスクおよびウェーハ検査機です。マシンビジョン技術と高度なオートメーション機能を使用して、欠陥を迅速かつ正確に検出します。また、簡単なデータ表示を容易にするユーザーフレンドリーなグラフィカルインターフェイスも含まれています。
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