中古 KLA / TENCOR SP3 SURFSCAN #9238001 を販売中

KLA/TENCOR SP3 SURFSCANは、高度なマスクおよびウェーハ検査装置です。あらゆるサイズのフォトマスクやウェーハの検査・分析に最適なシステムです。この検査ユニットは、高度な光学ビームスキャン技術と高度なアルゴリズムを使用して、サイズのミクロンからナノメートルまでの欠陥を検出します。さらに、このマシンは、業界標準に準拠した全分野の欠陥解析と欠陥分類を提供します。このツールの主な特徴は、高度な光学ビームスキャン機能です。この資産は、マスクとウェーハを検査し、異常を検出するために光のビームを使用します。ビームはリニアスキャン方式で、1ピクセルで5ミクロン未満の欠陥を検出することができます。このスキャン速度は従来のスキャン電子顕微鏡よりもはるかに高いため、より包括的な欠陥検出が可能です。モデルの洗練されたアルゴリズムは、その後、検出された欠陥を識別し、分類します。画像を分析し、欠陥を2つのカテゴリに分類します。この分類は、オペレータがthetfaftestを参照し、潜在的な原因を特定するのに役立ちます。欠陥検出および分類を提供することに加えて、装置はまたさまざまなポストスキャン欠陥分析に使用することができます。これには、ライブラリベースのスマートディフェクト分析や、欠陥サイズ、位置、形態、欠陥履歴の統計測定などのオプションが含まれます。さらに、あらゆる欠陥に関する計測測定をシミュレートすることができます。このシステムは、さまざまなリソグラフィーシミュレーション、解析、およびその他の光学測定を実行することもできます。より複雑な設計をサポートするために、このユニットはMentor GraphicsやKLAなどの業界の大手メーカーの最新のリソグラフィ設計およびシミュレーションツールに統合されています。全体として、KLA SP3 SURFSCANマスクおよびウェーハ検査機は、あらゆるサイズのフォトマスクおよびウェーハ欠陥を検出および分類するための信頼性の高い高精度なツールです。高度な光学ビームスキャン、高度なアルゴリズム、およびポストスキャン欠陥解析の組み合わせにより、半導体製造業界にとって非常に貴重なツールとなっています。