中古 KLA / TENCOR SP2 #9232738 を販売中

KLA/TENCOR SP2は、半導体製造用に設計されたマスクおよびウェハ検査システムです。KLA SP-2は、高度なシングルフォトンカウント技術を活用して、マスクとウェーハの両方に総合的な欠陥検出および検査ソリューションを提供します。TENCOR SP 2は、専用のマスク検査サブシステムとウェーハ基板検査サブシステムで構成されています。これらのサブシステムには、統合されたイメージング、イメージングスキャナ、照明器、欠陥解析ソフトウェアが装備されています。イメージングスキャナは、ダイナミックフォーカスと曲率測定機能を備えた高解像度イメージングを可能にし、画像比較の高精度を実現します。Illuminatorは非常に加速された照明を提供し、最高の点検速度を可能にし、欠陥検出を最適化します。SP2はまた、自動欠陥検出と欠陥分類のための高度なイメージングソフトウェアを備えています。これらのソフトウェアアプリケーションは、一般的な種類のプロセス開発および欠陥関連の異常、および不適切な製造またはデバイスのエラーによる欠陥を特定するように設計されています。さらに、イメージングソフトウェアはSEMとTEMの両方のイメージング技術と互換性があり、迅速かつ正確な欠陥検出を可能にします。スループットを最大化するために、SP-2はマルチスライス、フルオートスキャン機能を備えています。この自動スキャン機能により、複数のマスク/ウェハースライスを同時に検査および分析できるため、検査速度が大幅に向上し、マスク/ウェハ欠陥カバレッジが向上します。KLA SP2には、マスクとウェーハの特性評価のための統合されたユーザーインターフェイスも含まれています。このユーザーインターフェイスは、画像の効率的な可視化、比較、分析を提供し、ユーザーが生産用のマスク/ウェーハをすばやくレビューして最適化することができます。さらに、システムには、最大のプロセス制御と製品の信頼性を確保するために、統計、画像操作、および分析ツールの配列が付属しています。最後に、TENCOR SP-2システムには、不良タイプとサイズの詳細なロギングと分析を提供する高度なデータロギングと統計ツールが含まれています。この機能により、欠陥のピンポイント分析、詳細な根本原因分析、生産プロセスの意思決定の改善が可能になります。全体として、TENCOR SP2は、マスクおよびウェーハ検査に理想的なソリューションを提供し、自動的かつ効率的な方法で包括的な欠陥検出および特性評価機能を提供します。