中古 KLA / TENCOR SP2 #293698892 を販売中

KLA/TENCOR SP2は、高精度のスキャンと画像解析を提供するマスクおよびウェハ検査装置です。最先端の半導体技術と光学技術を組み合わせた最先端のツールで、プロセス制御のための単一のプラットフォームです。KLA SP-2は、幅広いフォトマスクおよびウェーハの検査および分析に、高速で自動化された正確な結果を提供することができます。TENCOR SP 2システムには、さまざまな欠陥を検出するためのさまざまなスキャンおよびイメージング技術が搭載されています。これには、光学ビーム誘導電流（OBIC）イメージング、ブライトフィールド、ダークフィールド、差動干渉コントラスト（DIC）、位相シフトイメージング（PSI）、赤外線イメージングが含まれます。これらの強力なスキャン技術により、SP2ユニットは欠陥を4µmだけ小さく分析して検出することができます。このマシンは、迅速な結果を提供し、大量のデータを迅速かつ正確に分析および処理するように設計されています。その洗練されたアルゴリズムは、欠陥を検出して定量化することができ、統計的プロセス制御（SPC）アルゴリズムや欠陥クラスタ分析などの追加機能を追加することができます。また、KLA SP 2は、カスタムおよび標準のイメージツールとフィルタの大規模なコレクションを備えており、ユーザーがデータを最適に分析するための制御と柔軟性を提供します。KLA SP2は、リアルタイムのオンライン欠陥レビューを提供します。これにより、1人のオペレータが、さまざまな検査フィールドにまたがる欠陥箇所を同時に確認することができます。また、リモートの意思決定のためのWebベースのレビュー機能を提供し、データと結果の正確性を確保します。さらに、SP 2は、ウェーハやマスクキャリアなどの他の産業オートメーションプロセスとの統合を可能にします。KLA/TENCOR SP 2も高度にカスタマイズ可能であり、ユーザーが特定のニーズに合わせてツールを構成できるさまざまなカスタマイズオプションを提供します。また、使いやすい組み込みユーザーインターフェイス、データ共有とコラボレーションを可能にする強力なネットワーク、高度なデータ処理オプションも含まれています。KLA/TENCOR SP-2は、強力なスキャンとイメージングと高度なソフトウェアとカスタマイズオプションを組み合わせた、マスクとウェーハの検査のための包括的なソリューションを提供します。正確な欠陥検出、迅速で信頼性の高い結果、および人員間の効率的なコラボレーションを保証する強力で堅牢な資産です。