中古 KLA / TENCOR SP2 #293603852 を販売中
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KLA/TENCOR SP2は半導体産業のために設計された先進的なマスクおよびウェーハ検査装置です。大容量ウェハレベルの欠陥検出に理想的なソリューションであり、前面および背面レイヤー接触イメージングの自動光学検査を提供します。このシステムにより、最も複雑なパターンと接触形状から非常に小さな細部まで、半導体ウェーハ製造における欠陥を検出することができます。KLA SP-2には、コントラスト、解像度、空間精度が等しくない視野を撮影するためのアポクロマティックイメージングユニットを提供する高度な客観的および照明装置があります。独自のデュアルスペクトラムイメージング技術により、透明および非透明の両方の欠陥を1umピッチまで迅速に検出できます。その他のイメージング機能には、自動的な不均一補正、背景の減算、小さなフィーチャーの解像度、強化されたフォーカスなどがあります。TENCOR SP 2は、RGBフォトミクログラフィー、ブライトフィールドイメージング、低光バックサイドイメージングなど、さまざまなウェハイメージングモードで動作します。エッチングおよびエッチングされていない回路、接触形状、基板層の欠陥の両方を検査するために使用できる高度な検査機能を備えています。インテリジェントな検査アルゴリズムは、さまざまな種類のフィルタリング、畳み込み、ニューラルネットワーククラスタリングを使用して、手動のウェーハ検査よりも迅速に欠陥を検出します。SP 2にはユーザーフレンドリーなグラフィカルユーザーインターフェイス（GUI）があり、オペレータはより正確な欠陥検出のためにマシンをプログラムし、処理に使用されるパラメータをチェックすることができます。さらに、このツールは、強力な一連の分析およびレポート作成ツールでデータ分析と管理をサポートします。KLA/TENCOR SP-2は、製造サイクルの歩留まり率を向上させ、迅速かつ正確な欠陥検出を提供することにより、プロセス精度を向上させるように設計されています。ウェハレベルのウェハ薄型化プロセス、バンプ・中間微粒ライン形成プロセス、3D IC、指紋認証、モノのインターネットなどの透明技術の取り扱いに適しています。
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