中古 KLA / TENCOR SP1-TBI #9226564 を販売中

KLA/TENCOR SP1-TBIは、世界中の半導体メーカーの厳しい要件を満たすように設計された高性能マスクおよびウェハ検査装置です。KLA SP1T-BIは、高度で専用の超紫色レーザーにより、高度なプロセス制御を保証するために必要な重要な形状を迅速かつ正確に測定します。このシステムは、優れたサーフェス、クリティカルパラメータ、オーバーレイ測定、および大容量プロセスノードと相関する機能サイズを提供するように設計されています。さまざまなイメージング、センシング、レーザーツールを統合しており、故障診断のためのステッチングとステッチングの先進的な組み合わせを提供します。TENCOR SP1 TBIは、最高レベルの生産性を念頭に置いて設計されており、高速で信頼性の高いウェーハ処理を備えた250mmスキャナプラットフォームと、効率的なパターンおよびアライメント調査のための高速ステッチ機能を備えています。このユニットには、自動化された生産および品質管理プロセスをサポートするための堅牢な分析およびデータ処理ツールも含まれています。この機械は、さまざまなタイプの構造の高度なプロセス制御要件を含む、さまざまな検査およびレビュー作業をサポートするように設計されています。TENCOR SP 1 TBIは、明るいフィールド、暗いフィールド、位相コントラストイメージングなどの実証済みの光学技術を使用して、高解像度のイメージングを強化し、最小の欠陥でも正確に識別できます。このツールはまた、速度と精度を向上させるための強力なウェーハアライメント機能を備えています。基板オーバーレイエラーやテクスチャの問題を正確に自動的に検出して定量化するために機能し、オンラインとオフラインの両方の測定をサポートするさまざまな高度なソフトウェア機能を備えています。さらに、TENCOR SP1T-BIは、高度なピクセルレベル欠陥検査、OCR技術、さまざまなパターニング技術のサポートなど、多数の高度なウェハレベル測定および検査ソリューションを実行しています。安定性機能の強化により、フォトマスクからウェーハまで、幅広い基板で決定的な測定結果が得られます。さらに、KLA SP1 TBIは高度なプロセス制御機能を備えており、リアルタイム測定とアライメントのフィードバックを可能にします。高度な制御と能力プロファイリングにより、フローとスループットが向上し、歩留まりの向上と廃棄物の削減が可能になります。全体として、KLA SP 1 TBIは強力で信頼性の高いマスクおよびウェーハ検査資産であり、正確な結果を得るための優れたイメージング、センシング、およびレーザー機能を提供します。堅牢なソフトウェア機能と高度なプロセス制御機能を備えたKLA/TENCOR SP1 TBIは、さまざまな品質管理およびエンジニアリング作業に不可欠です。KLA/TENCOR SP 1 TBIは、信頼性が高く、高速で正確な結果を必要とする半導体メーカーにとって理想的な選択肢です。