中古 KLA / TENCOR SP1-TBI #9183811 を販売中

KLA/TENCOR SP1-TBIマスクおよびウェハ検査装置は、マスクおよびウェハレベルの欠陥の検出および正確な測定に使用される高度なシステムです。これは、ウェハレベルおよびレチクルレベルの完全な検査、ならびに欠陥分離および分類を、これまでにないレベルの精度と速度で提供するように設計されています。このユニットは、高度なレチクル計測ステージと最先端の高解像度マスクイメージングマシンを組み合わせています。レチクル計測ステージは、同時測定機能を備えたレチクル検査用のアクティブスキャン、エアーベアリングツールです。アセットは、クリティカルなリチクルアライメントやオーバーレイなどの物理的な寸法と、クリティカルな欠陥サイズ、サイズ分布、欠陥形状フィーチャーなどのより複雑な機能を測定します。このイメージングモデルは、特許取得済みのクワッド反射装置を使用して、検査中のレチクルの4つの高品質な画像を生成します。これらの画像は、レチクル上の微小およびナノメートルスケールの欠陥を正確に検出および測定するために使用されます。このイメージングシステムは、単結晶、多結晶、シリコンオンインシュレーター、薄膜など、さまざまな基板媒体で動作するように設計されています。高解像度イメージングおよび計測に加えて、KLA SP1T-BIは欠陥を識別し、詳細な欠陥修復レポートをすぐに生成することができ、全体的な納期を短縮します。このユニットは、サイズ、形状、向き、タイプを含む欠陥分類および分析を提供する自動欠陥検査アルゴリズムを統合しています。TENCOR SP1 TBIは完全にカスタマイズ可能で再構成可能であるように設計されており、ユーザーはマシンを特定の要件に合わせて調整することができます。このツールは、部品配置アシスタント、画像解析ツール、および欠陥の識別と解像度を容易にするための自動修復推奨など、さまざまなツールを備えています。KLA SP 1 TBIマスクおよびウェーハ検査アセットは、マスクおよびウェーハ基板上のサブミクロンの特徴および欠陥を正確かつ正確に検出するための強力なツールです。高解像度イメージング技術、自動欠陥解析アルゴリズム、カスタマイズ可能なツールにより、これまでにない速度と精度でマスクおよびウェーハ基板の欠陥を検出し、迅速に修復することができます。