中古 KLA / TENCOR SP1-TBI #9037347 を販売中

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ID: 9037347
ウェーハサイズ: 8" and 12"
ヴィンテージ: 2005
Single open cassette type Vaccum chuck type Software 4.1 Ver. Particle counter, 8" and 12" Single open cassette Vacuum chuck type Software: version 4.1 Laser and laser power supply Triple beam illumination (TBI) Wafer type: bare and film Normal illumination: 0.079um defect sensitivity, oblique illumination, 0.06um defect sensitivity 0.005 ppm Haze sensitivity Ar Ion laser (488nm) RTDC (Real time defect classification) Measurement chamber with ULPA filter and blower unit Security, Logging and Native Networking Key pad controls, TFT flat panel display Parallel printer port Defect map and histogram with zoom Micro view measurement capability Blower box Currently de-installed 2005 vintage.
KLA/TENCOR SP1-TBI Mask&Wafer Inspection Equipmentは、高速フォトマスク製造用に設計された高度なウェーハおよびマスク検査システムです。このユニットは、単一のプラットフォーム上で2つの独立した検査チャネルを使用して、最大12MHzで高品質のウェーハおよびマスク検査を提供します。KLA SP1T-BIは、6インチまたは8インチのフォトマスクウエハの複雑なパターンの欠陥特性評価およびパターン検証用に設計されています。このマシンには、フォトマスクウェーハ上のパターンを捕捉および分析するための高解像度カメラと光学機器が装備されています。このツールはまた、マスクの表面のXYスキャンと2軸チルトステージを可能にするステージモーションアセットを備えています。また、ピッチラインの小さな欠陥、エッチング上の欠陥、ミスヒット、ミスマッチ、レイヤーミスアラインメント、未処理のチェッカーボードパターン、エッチング上の欠陥など、さまざまな種類の欠陥を検出することができます。この装置は、関連するウエハの欠陥を正確に検出し、ウエハ形状を認識して検査対象を特定することができます。HPC (High Performance Compute)システムを使用して、TENCOR SP1 TBIユニットは複数の画像を同時に処理し、任意のリソグラフィ誤差を迅速に識別できます。高速スキャンと検査は、高速スキャンマッピングとデータ処理によって駆動されます。このマシンは、詳細なレポートを迅速に生成するための自動欠陥分類とグレーディングプロセスを備えています。TENCOR SP1-TBIマスク&ウェーハ検査ツールは、ハイエンドマスク製造に最適なソリューションです。これにより、信頼性、精度、高速検査が向上し、手動スキャンプロセスと比較してスループットが向上します。このアセットは、オペレータの使用を容易にするためのユーザーフレンドリーなインターフェースを備えています。さらに、このモデルは高度なソフトウェアを使用して、プロセスのバッチを追跡、保存、分類、分析します。装置は効果的なトレーサビリティを可能にするさまざまなタイプのステップおよびレビュー操作のための詳細なレポートを提供します。KLA/TENCOR SP1 TBIは、優れた精度と比類のない速度で優れた全体的な性能を提供します。このシステムは、信頼性の高い費用対効果の高い生産を確保するために、最も要求の厳しい生産プロセスのニーズを満たしています。
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