中古 KLA / TENCOR SP1-TBI SURFSCAN #9115137 を販売中
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販売された
ID: 9115137
System, 8"/12" or 6"/8"
Single Station, Dual Station, 4 Stations and DFIMS are available to convert
Properties: SEMI standard wafer thickness and geometry
Material: Silicon wafers that scatter 10% of incident light
Defect Sensitivity (PSL sphere equivalent)
0.08 diameter, normal illumination
0.06 diameter, oblique illumination (optional)
95% capture rate
Haze Sensitivity: 0.005ppm
Repeatability Count: CV1 1.0% (Mean count 2000, 0.155 diameter latex spheres)
Edge Exclusion: 3 mm
XY Coordinates (optional) Coordinate Accuracy: 80th percentile 20
Throughput (200mm): Up to 125 wph @ 0.08
Front side Contamination: 0.001 particles/cm²/pass 0.12
Cassette Handling Standard: Single puck with one cassette station
Illumination Source: 30mW Argon-Ion laser, 488nm wavelength
Operator Interface: Keypad, pointing device and keyboard standard
Operating System: Windows NT 4.0
Installation Requirements:
Vacuum: 20KPa (24”Hg)
Electrical: 200-240V 50/60 Hz
Power Requirement: 5.4 kVA
Ducted Venting: Two 102mm (4”) exhaust hoses
Environment: Class 10 or better
SP1/TBI 4Station, SP1/TBI 4 Station, SP1/TBI 4 Stations, SP1/TBI DFIMS
SP1/DLS 4Station, SP1/DLS 4 Station, SP1/DLS 4 Stations, SP1/DLS DFIMS
SP2 and SP2/XP 12" DFIMS are also available.
KLA/TENCOR SP1-TBI SURFSCANは、高密度、高品質の半導体製造のために設計された最先端のマスクおよびウェハ検査装置です。高度なウエハ検査用の高精度イメージングを提供し、欠陥を迅速かつ正確に検出します。SP1-TBIは、高度な光干渉、大面積スキャン、位相シフト計測、イメージコントラストの強化などの先端技術を活用して、シリコン、ガリウムヒ素、石英などの幅広い基板上の重要な寸法、地形、欠陥を正確に検出します。SP1-TBIは、最大4µmの画像解像度を提供する卓上サイズのシステムです。バックグラウンドよりも明るさを保ちながら直径4。8nmまでの欠陥を検出し、容易に欠陥を識別することができます。このSP1-TBIにより、単一またはデュアルの視野イメージングが可能になり、異なるウエハの種類や用途に合わせて正確に調整されたプロセス制御が可能になります。ウエハサイズは最大200mmまで対応可能で、自動ウェハハンドラとロボットアセンブリの両方で使用できます。光学の面では、SP1-TBIには偏光符号化を利用した独自の二重反射光学マシンがあります。これにより、優れた画質が保証され、拡張欠陥に対する優れた感度が得られます。また、高速で高解像度の充電結合デバイス(CCD)カメラを採用し、ツールの感度とスループットをさらに向上させます。SP1-TBIはまた、高速かつ信頼性の高い欠陥検出のための自動画像キャプチャ、ストレージ、および分析を提供します。全体として、KLA SP1-TBI SURFSCANは、基材、形状、サイズにわたって優れた欠陥検出機能と精度を提供する信頼性の高いマスクおよびウェハ検査アセットです。幅広い基板上で迅速、効率的、正確な欠陥検出を実現し、多様な生産フローのニーズに容易に統合できる汎用性を備えています。
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