中古 KLA / TENCOR SP1-TBI SURFSCAN #9097041 を販売中

KLA/TENCOR SP1-TBI SURFSCANは、マイクロエレクトロニクス製造用に設計された最先端のマスクおよびウェハ検査装置です。この半導体製造システムは、表面欠陥検出機能を包括的に備えており、マスクやウェーハの最小欠陥を0。02ミクロンのサイズで識別することができます。KLA SP1-TBI SURFSCANは、マスク検査ユニット（MIU）やウェーハ検査ユニット（WIU）など、いくつかのユニット・システムで構成されています。MIUは高度な欠陥検出機能を提供し、大量生産に最適です。マスクパターン上での高精度サブミクロン欠陥検出が可能で、精度は最大0。3ミクロンです。WIUは、ワイヤーボンドやその他の外部欠陥の欠陥チェックを可能にする追加機能を提供します。TENCOR SP1-TBI SURFSCANは、高度な欠陥検出機能に加えて、さまざまな機能を検査できる幅広いイメージングオプションを提供しています。フィーチャーサイズ、アスペクト比、線幅/間隔などがあります。また、従来の光学系では検出が困難だった不具合を正確かつ迅速に検出できる独自の角度補正機能と位置追跡機能も備えています。SP1-TBI SURFSCANは、高精度イメージングソリューションを提供することもできます。これは、高度なアルゴリズムを使用して、マスク上のテキスト、画像、パターンを詳細にレンダリングすることができます。さらに、高解像度のインダイ機能を備えた3Dウエハでの高速かつ正確な測定が可能で、生産ラインの自動化に信頼性の高い結果を提供します。一方、このマシンは強力なリアルタイム欠陥解析機能を提供し、ユーザーが即座に結果を保存および分析することができます。全体として、KLA/TENCOR SP1-TBI SURFSCANは、ユーザーがマスクやウェーハの欠陥を正確に識別できる高度な生産ツールです。正確な測定と高精度のイメージングを提供し、非常に細部と品質を提供します。さらに、堅牢な欠陥検出機能を備えており、0。02ミクロン以下の欠陥を検出することができます。柔軟なイメージングオプションと強力な欠陥解析機能を備えたKLA SP1-TBI SURFSCANは、半導体製造ラインに最適です。