中古 KLA / TENCOR SP1-DLS #9375212 を販売中
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KLA/TENCOR SP1-DLSは、プロセス制御および歩留まり管理ソリューションのグローバルプロバイダーであるKLAによって開発されたマスク&ウェハ検査装置です。このシステムは、半導体・電子業界のメーカーがマスクやウェーハの設計を素早く正確に検査し、寸法精度とピクセル精度を確認できるように設計されています。このユニットは、高度なイメージングおよびパターン認識技術を使用して、すべての解像度とアスペクト比でマスクおよびウェーハ設計をスキャンおよび分析します。KLA SP1 DLSは、照明と計測制御を1つのユニットに組み合わせ、マスクとウェーハの表面を正確に検査する自動化された機械です。これは、高速で信頼性の高いデータ比較と検証を提供するように設計されており、ユーザーは異常や欠陥をすばやく特定し、生産歩留まりへの影響を分析することができます。このツールには、複数のアライメントモードと3Dトポグラフィー機能が含まれており、ユーザーはウェーハとマスクの構造を2方向に測定および特徴付けることができます。X-Y平面で1つ、Z平面で1つ。このアセットは、高解像度のデジタルイメージングデバイスと高精度スキャナを使用して、マスクおよびウェーハ表面の画像ファイルを取得および表示します。このモデルは、最大300ナノメートルの解像度での画像キャプチャが可能です。細かい機能スキャンに使用されるシステムに直接組み込まれたミニスコープ装置により、データ精度がさらに向上します。このユニットには、ウェーハまたはマスク上の高さ、幅、その他の機能を3次元で測定できる3Dトポグラフィーツールを含む、画像処理と分析のための高度なソフトウェアツールのスイートが装備されています。このマシンには欠陥検出と比較ツールも含まれており、異なるマスクやウェーハからの画像を比較してサイズの違いを検出して監視することができます。このツールは、GDS-II、 Oasisなどの業界標準のデータフォーマットを幅広くサポートしています。TENCOR SP 1-DLSアセットは、高度なイメージングおよび分析機能に加えて、数多くの歩留まり解析およびプロセス制御機能も提供しています。このモデルには、欠陥のサイズと位置に関するレポートを生成するジオメトリ検査レポートビルダーと、各製品のプロセスウィンドウ設定を分析および調整できるプロセスウィンドウ最適化ツールの両方が含まれています。また、この機器は完全な欠陥レビューとトラッキング機能と、マスクとウェーハの比較のためのユーザー定義の公差行列も提供します。全体として、KLA/TENCOR SP 1-DLSは高度なマスクおよびウェーハ検査ツールであり、メーカーにマスクおよびウェーハ設計を迅速かつ正確に分析する手段を提供します。包括的なイメージングおよび分析ツールと歩留まり分析およびプロセス制御機能を備えており、製造メーカーは生産歩留まりを最適化し、プロセス全体のパフォーマンスを向上させることができます。
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