中古 KLA / TENCOR SP1-DLS #9257954 を販売中

KLA/TENCOR SP1-DLSは、半導体デバイスの製造に使用されるフォトマスクの精度を検査するために使用される高度なマスクおよびウェハ検査装置です。フォトマスクは、電子部品を収容する半導体チップ上のコンポーネントを作成するために使用され、マスクの品質は、高品質の半導体デバイスを生産するために不可欠です。KLA SP1 DLSシステムは、フォトマスクの信頼性の高い正確な検査を保証し、プロセスの変更を監視し、欠陥を診断するために、複数の洗練された技術を備えています。高解像度マイクロミラーベースのイメージングマシン、プログレッシブスキャンデジタルカラーカメラ、高度な画像処理アルゴリズム、統合欠陥検査ツールなどが特徴です。高解像度のマイクロミラーベースのイメージングアセットは、デジタルカメラと高速スキャンイルミネーションで構成されています。プログレッシブスキャンデジタルカラーカメラは、単一の統合期間にフルカラーイメージをキャプチャします。TENCOR SP 1-DLSは、高度な画像処理アルゴリズムも提供しています。このモデルは、パターンマッチング、変換アルゴリズム、フィルターベースの強度スケーリングアルゴリズムの組み合わせを使用して、画像を分析し、欠陥を検出します。この装置は、ステップバイステップの解析プロセスを利用することで、非常に複雑なパターンであっても、潜在的な欠陥を迅速に特定することができます。統合欠陥検査システムは、潜在的な欠陥の画像を分析するためのユーザーフレンドリーなソリューションを提供します。欠陥解析テンプレートを利用することで、画像の欠陥を簡単に検査して分類することができます。分類が完了したら、自動ツールを使用して欠陥を整理し、レポートを生成できます。最後に、KLA SP 1 DLSには欠陥比較ユニットが自動化されており、複数のフォトマスクまたはウェーハ間で欠陥を比較できます。この機能を使用することで、ユーザーは欠陥が存在する領域をすばやく特定したり、新しい欠陥が現れたかどうかを判断したりできます。KLA/TENCOR SP 1-DLSマシンは、信頼性の高い半導体デバイスの製造のための高精度フォトマスクを保証するために使用される高度なマスクおよびウェハ検査ツールです。高解像度マイクロミラーベースのイメージングモデル、プログレッシブスキャンデジタルカラーカメラ、高度な画像処理アルゴリズムなど、複数の先進技術を使用して、欠陥を迅速かつ正確に検出および分類します。統合された欠陥検査装置は、欠陥の画像を検査するユーザーフレンドリーな方法を提供し、自動欠陥比較システムは、ユーザーが複数のウエハとフォトマスクの欠陥を比較することができます。