中古 KLA / TENCOR SP1-DLS #9202491 を販売中

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KLA / TENCOR SP1-DLS
販売された
ID: 9202491
ウェーハサイズ: 12"
Unpatterned surface inspection system, 12" Defect sensitivity on polished bare silicon: 0.050 µm Enhanced rough film sensitivity ARGON Ion laser: 488 nm Defect map and histogram with zoom RTDC (Real Time Defect Classification) Map to map Operator interface Mini environment platform ASYS Isoport ASYS Axys 21 Robot Vacuum system (Vacuum chuck) Option, Inmatch Haze Analysis Normalization Feature XY Coordinates Normal illumination Oblique illumination Source: Solid state power: 75 mW Wavelength: 488 nm Load port, 12" ASYST Dual FIMS Bulkhead (2) Advantag single wire CID Handlers Puck handling, 12" GEM / SECS And HSMS NFS Client (4) Color light towers Options: Bright field E84: Overhead load system E40 / E94 / E90 And AGV / RGV E87 (Based on E39) Operating system: Microsoft windows NT 4.0 CPU: Intel pentium III 997MHz RAM: 1 GB Blower unit.
KLA/TENCOR SP1- DLS™は、高度なデジタルイメージングおよび計算アルゴリズムを使用して半導体マスクおよびウェーハの欠陥を特定する完全自動化、高解像度マスクおよびウェーハ検査装置です。このシステムは、25nmのサイズの小型および大面積の両方の欠陥を検出する機能を備えています。また、10nm程度の線幅の測定も可能です。このユニットは、ジョブに応じて構成可能な堅牢な300mm検査ソリューションを備えています。KLA SP1 DLSは6。4umの広い視野を持ち、必要に応じて16umまで拡張することができます。これは、広い領域のスループットと精度を向上させるのに役立ちます。また、最大256xの光学ズームと最大100ポイント/秒の検査速度の向上を備えています。このマシンは、明るいフィールドと暗いフィールドの両方の検査を実行する機能を備えており、さらに小さな欠陥を検出することができます。TENCOR SP 1-DLSは、KLA独自の測定技術を使用しており、高精度で高解像度のプロファイル測定と同時に取得したカラー画像を組み合わせています。これにより、さまざまな欠陥タイプを迅速に認識でき、各欠陥に最も適切な修復アクションを選択するのに役立ちます。このツールには、ターゲットウェーハまたはマスクの特定の特性に基づいて最適な欠陥検出および修復アルゴリズムを正確に選択できる、高度な欠陥可視化ソフトウェアも含まれています。これは、資産が異なるジョブの正確な要件を満たしていることを確認するのに役立ちます。また、5軸アライメントを搭載しており、他の機能によって凹んだりオーバーレイされたりするパターンなど、複雑な形状の3D測定を迅速かつ正確に行うことができます。この機能により、検査プロセスのトータルサイクルタイムが短縮され、スループットが向上します。TENCOR SP1-DLSは、高度な測定および検査機能に加えて、自動ライトレシピ、ライブラリ構築、レシピライブラリ、高度な欠陥データベースなど、幅広い統合およびオートメーションオプションを備えています。装置には、検出されたすべての欠陥が正確に識別され、修復されることを保証するために、プレプロセス検査とポストプロセス検査の両方が含まれています。全体的に、TENCOR SP 1 DLSは、コンパクトで高速で高精度なマスクおよびウェーハ検査システムであり、迅速で信頼性の高い欠陥検査および欠陥修理を可能にします。高解像度イメージングと高速測定が可能で、幅広い用途に最適な検査ソリューションです。
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