中古 KLA / TENCOR SP1-DLS #9099729 を販売中

KLA/TENCOR SP1-DLS Mask&Wafer Inspection Equipmentは、半導体ウェーハの欠陥や集積回路製造に使用されるマスクやフィルムを検出するための自動イメージングシステムです。本装置は、ブライトフィールド、ダークフィールド、散乱場イメージングなどの高度な技術と、特殊な光学フィルターを使用し、わずか0。8 μ mの解像度でウェーハ表面や膜厚を調べることができます。このマシンは、1つ以上のウェーハ検査ポート、一連の照明ランプと光学系、および関連する画像取得および解析ソフトウェアのスイートを含む検査モジュールで構成されています。点検港は顧客の要求および適用に従って形成することができるモジュール光学プラットホームです。可動式のX-Yステージ、20X〜1000Xズーム可能な光学ツール、リング状のブライトフィールド照明アセットを備えており、モデルは最小の機能でも画像を撮影できます。KLA SP1 DLS装置は、さまざまな種類の欠陥検出に最適化するためのさまざまな特殊光学系を使用しています。2つのカメラを使ってウェーハの2D画像を撮影するTransmissive Systems Optics （TSO）や、マスクやフィルム表面の欠陥を検出するために最適化されたReflective Systems Optics （RSO）などがあります。TENCOR SP 1-DLSユニットは、欠陥検出プロセスを合理化する高度な画像解析ソフトウェアを備えています。洗練されたアルゴリズムを使用して、このマシンは、ブライトフィールドとダークフィールドの両方の画像の欠陥の存在を検出することができます。このツールは、粒子や燃えた斑点など、肉眼では見えない欠陥を検出することさえできます。さらに、この資産は高い精度と再現性を備えているため、顧客は製品の欠陥を正確に検出していると確信できます。結論として、SP 1-DLS Mask&Wafer Inspection Modelは、半導体ウェーハ、マスク、およびフィルムの欠陥の最小でも検出するように設計された高度な自動イメージング装置です。TransmissiveやReflective Systems Opticsなどの高度な技術と、高度な画像解析ソフトウェアを使用しています。