中古 KLA / TENCOR SP1 Classic #9229734 を販売中

KLA/TENCOR SP1クラシックマスクおよびウェハ検査装置は、チップレイアウト、リソグラフィーマスク、プリント基板（PCB）、および集積回路（IC）製造用のフォトマスク検査など、さまざまな2Dデバイスに使用される先進の非接触光学的パターン認識検査システムです。小さな回路から大きなチップアレイまでの構造の欠陥を検出するように設計されています。KLA SP1 Classicは高速で正確なパターン認識を提供し、ユーザーはマスクやウェーハの欠陥や異常をすばやく特定できます。最大解像度0。3 μ mの高解像度イメージングにより、小さな欠陥を検出できます。さらに、高性能のデータストレージユニットにより、高速で効率的なデータ取得が保証されます。マスクおよびウェーハ検査用には、先進的な光学イメージング顕微鏡、ビームスプリッタ、キャリブレーレーザーおよびレーザダイオード、リニアリニアダイオードアレイ検出器、およびデジタルイメージプロセスコンピュータを備えています。この顕微鏡には、12インチ正方形の高解像度CCDカメラが装備されています。これにより、マスクまたはウェーハのイメージが生成され、ビームスプリッターに投影されます。2つの分割ビームは、積極的に安定化されたミラーのセットによって集中し、指示されます。これは、リニアダイオードアレイ検出器によって捕捉され、デジタルイメージプロセスコンピュータに送信される干渉パターンを作成します。デジタルイメージプロセスコンピュータは、干渉パターンを処理してマスクまたはウェーハの欠陥を識別します。マスクやウェハの検査に加えて、レチクルの取得にも使用できます。レチクル取得モジュールは、マスクとウェーハがすべて正確に測定され、最も正確な結果を得るために検査されることを保証します。TENCOR SP 1 CLASSICマスクとウェーハ検査アセットを使用することで、マスクやウェーハの欠陥を迅速かつ正確にチェックでき、製造コストを大幅に削減できます。高解像度イメージングと高速データ取得機能により、このモデルはさまざまなアプリケーションに適しています。