中古 KLA / TENCOR SL3 #293829418 を販売中

KLA/TENCOR Starlight SL3は、半導体製造に使用するために設計された高度なマスクおよびウェハ検査装置です。マスク表面やウェーハ表面からの欠陥や汚染を識別するための高解像度イメージングを提供します。このシステムはまた、不具合をすばやく見つけて特定するための高度なイメージングおよび分析ツールも提供します。KLA Starlight SL3は、高度な波長選択とより高い数値絞りを備えた高性能の光学ユニットを備えており、画質を向上させます。これは、より正確な欠陥検出を可能にするために、2つの角度でマスク表面をスキャンしてイメージする二軸スキャナを含みます。また、スポットスキャン、ラインスキャン、パノラマフレームなどの高度なイメージング技術も搭載しており、ウェーハとマスクの表面を可能な限り最高倍率で正確に検査することができます。TENCOR Starlight SL3は、マスクおよびウェーハ表面に存在する欠陥を検出、分類、測定するための高度な画像解析ツールを備えています。これにはADDS （Adaptive Defect Detection Asset）が含まれており、マスクやウェーハ表面の欠陥を「学習」して、ヒトでは容易に識別できない可能性があります。DRAM （Defect Review and Analysis Module）は、欠陥と汚染物質の詳細な分析を可能にし、その位置、欠陥の種類、サイズ、形状、振幅についてリアルタイムでフィードバックを提供します。このモデルはまた、手動検査の必要性を最小限に抑えるために自動欠陥分類を提供します。Starlight SL3は検査官に優しい操作および強力なオペレータインターフェイスを提供します。これには、オペレータが機器を設定、構成、および制御するのを助けるいくつかのソフトウェアパッケージが含まれています。これらには、マスクエディタソフトウェア、PC検査ソフトウェア、およびWin Toolboxソフトウェアが含まれます。このシステムは、他の半導体製造装置やデータベースと統合することもでき、生産プロセスを包括的に把握することができます。KLA/TENCOR Starlight SL3は、小さなフットプリントで信頼性の高い正確な動作を実現するよう設計されています。その低い所有コストと最小限のメンテナンス要件により、多くの半導体製造事業に理想的な選択肢となります。このユニットは、重要なマスクおよびウェーハ表面からの迅速かつ正確な欠陥検出をメーカーに提供するように設計されています。