中古 KLA / TENCOR MPV CD2 AMC #9043963 を販売中

KLA/TENCOR MPV CD2 AMCは、革新的な測定アルゴリズムと高速画像取得技術を組み合わせた最先端のマスクおよびウェーハ検査装置で、半導体マスクおよびウェーハの正確な検査および分析を提供します。マスクや半導体デバイスの製造工程における欠陥を検出・解析することで、より信頼性の高い効率的な生産を実現します。このシステムは、パワフルで信頼性の高いPCベースのハードウェアに接続された、メインコントロールコンソールと高解像度デジタル顕微鏡で構成されています。マスクやウェーハの画像を素早く加工・計測することができます。この顕微鏡には12メガピクセルの4倍デジタルズームカメラが搭載されており、マスクやウェーハ上の小規模機能を検査するために最適に設計されています。さらに、このユニットには複数の専門ソフトウェアプログラムが含まれており、さまざまな検査タスクに最適なツールを簡単に選択できます。KLA MPV CD2 AMCのメインモジュールは、最大8k x 8k解像度の3次元データを収集することができ、ウェーハやマスクを検査する際に比類のない性能を発揮します。高速画像取得機を搭載しており、検査時のウェーハの高速スキャンが可能です。また、特殊なアルゴリズムを備えており、0。1ミクロンの欠陥を迅速に検出することができます。さらに、ユーザーが選択可能なアルゴリズムを備えており、精度と精度を向上させたデータ分析に使用できます。このアセットには強力な測定ソフトウェアも含まれており、重要な寸法や表面の複雑さを含む構造のサイズと形状をすばやく評価できます。このソフトウェアは、非常に小さな欠陥を検出するために使用することができ、製造業者は繊細なマスクおよびウェーハ製造プロセスを検査するためのより信頼性の高いモデルを提供します。TENCOR MPV CD2 AMCはマスクおよびウェーハの点検のための偽りなく信頼でき、革新的な装置です。強力なハードウェアと革新的なアルゴリズムを組み合わせることで、大規模なウェーハおよびマスク製造プロセスの小さな欠陥を検出するのに理想的な印象的なシステムを作り出します。高速な画像取得機能により、正確かつ効率的な検査が可能となり、複雑かつ小規模な半導体デバイスの製造メーカーにとって強力なツールとなります。