中古 KLA / TENCOR / ICOS WI-2250 #293650418 を販売中

KLA/TENCOR/ICOS WI-2250マスク&ウェーハ検査装置は、マイクロエレクトロニクスやデータストレージなどのアプリケーションで使用される精密イメージングシステムです。400mmまでの視野を持つ基板表面の高解像度画像を提供します。パターン認識、自動断面処理、高度なアルゴリズムなどの高度な技術により、マスク面とウェーハ面の両方の特徴を詳細に検査できます。KLA WI-2250の主な機能は、8インチの画像領域、4インチの表示領域、最大16倍の高解像度ズーム機能です。そのイメージング速度と最初の画像への時間は、特定のアプリケーションに基づいてカスタマイズすることができます。このユニットは、多次元ウエハ検査やマスク検査のための高精細分解能を備えています。統合された画像強化ツールは、優れた画像シャープネスとコントラストを提供し、さまざまな画像表示オプションを提供します。ICOS WI-2250はまた、ユーザーがマスクとウェーハサーフェスの両方のわずかな欠陥または欠陥を特定することができる高度な画像処理アルゴリズムを提供しています。マスキングアプリケーションで使用される標準マスクと互換性があり、シリコン、半導体、フォトマスク、クォーツなどのウエハ素材に対応しています。マスク及びウエファーの点検機械は電子吸引制御およびプログラム可能な自動締切りが付いている真空部屋が装備されています。これにより、適切な密閉接触が保証され、マスクやウェーハに損傷を与えることなく所定の位置に保持されます。真空はまた、表面に沿って熱と圧力を伝達するのに役立ちます。さらに、WI-2250は、小さな欠陥を検出するための解像度を最大化するのに役立つPおよびDR検出ツールを備えています。PDRアセットは、ユーザーが表面上の任意の粒子の動きを監視することができます。このモデルは、汚染された表面を検出する機能も備えています。全体として、KLAのTENCOR WI-2250は、優れた画像解像度とさまざまな画像処理ツールを提供する高性能マスクおよびウェーハ検査装置です。統合されたイメージング技術、画像とマスクの正確なアライメント、真空直接圧力はすべて、正確で信頼性の高い検査に貢献します。また、高度なイメージングおよび検出アルゴリズムにより、最も微細な欠陥や欠陥をすばやく検出して解決することができます。