中古 KLA / TENCOR FLX-5400 #9088894 を販売中

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ID: 9088894
Stress measurement system Measurement area: 1 ~ 10 Mpa Throughput: 60 wafers per hour H3 Handler GEM/ SECS (2) Lasers: Red and Infrared Intensity: 2~4 at 670 nm, and 2~4 at 750/780 nm Wafer presence sensor Vacuum sensor Open cassette port: 8" OS: Windows 3.11 Software" WINFLX 4.40 CPU: MMX 233 MHz Floppy disk: Yes LED Monitor HP Deskjet 660C printer Facility requirements Main body: 100 VAC, 1P, 50/60 Hz at 7A Printer: 115 VAC, 1P, 50/60 Hz at 7A Input vacuum: 560 mmHg 1996 vintage.
KLA/TENCOR FLX-5400は、半導体デバイスに存在する製造欠陥を検出し、特性評価するために使用されるマスクおよびウェハ検査装置です。このパワフルなシステムは、高度なウェーハ検査技術と強力で確実なソフトウェアインタフェースを組み合わせ、最高品質の半導体デバイスを保証します。KLA FLX-5400にはカスタマイズ可能な視野(FOV)があり、検査対象エリアのサイズとユニットのキャリブレーションを変更できます。これにより、ユーザーはFOVを特定の要件に合わせて調整することができ、非常に小さな欠陥またはより大きな機能を検査する柔軟性も提供します。また、視野異常による誤検出を防止するため、検査プロセス全体で視野を変化させることができます。TENCOR FLX 5400の中心には、モアレ・フリンジ投影と呼ばれる特殊なパターン化された照明技術を実行する4つの高度なCCDセンサーで構成された高性能の検査サブシステムがあります。この高度な技術は、従来の光学系の手法では見ることのできない微細な変動を検出するために使用されます。また、TENCOR FLX-5400は、これらの高度なCCDセンサーを使用してウェーハを自動的に整列させて最適なフィーチャー検出を行い、ユーザーが微妙なエッジ変動を検出できる強力なエッジ検出アルゴリズムを提供します。このツールはまた、高精度の欠陥検出と画像の強化を保証するさまざまな機能を備えています。不均一な照明を補正する画像再構成技術、欠陥検出能力を高める3次元機能検出アルゴリズム、欠陥を測定する際の現実的な解像度を提供する統合欠陥レビュー資産などがあります。さらに、KLA FLX 5400は、トレーニングと機器のセットアップ時間を短縮するユーザーフレンドリーなソフトウェアインターフェイスを提供します。直感的なグラフィカルユーザーインターフェイス(GUI)により、検査パラメーターの設定、レイヤー割り当て、画像チューニングなどの設定プロセスをガイドします。その強力なソフトウェアスイートには、自動欠陥分類、誤った欠陥軽減、パターン検証ツールなどの強力なFLXソフトウェアツールも含まれています。KLA/TENCOR FLX 5400は、高度な光学系欠陥検出技術と高度な検査機能と直感的なソフトウェアインタフェースを組み合わせた高度なマスクおよびウェハ検査モデルであり、ユーザーに最高品質の半導体デバイスを維持するための強力なツールを提供します。
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