中古 KLA / TENCOR FLX-5200 #9148242 を販売中

KLA/TENCOR FLX-5200は、微小欠陥やその他の汚染物質を特定するための高度なイメージングおよびデータ分析機能を提供するマスク&ウェハ検査装置です。ウェーハやマスクの整合性を損なう可能性のある表面レベルとサブサーフェスレベルの問題を特定するための貴重なツールです。KLA FLX-5200検査システムの主な目的は、マウントされたウェーハ、フォトマスク、マスク、レチクルなどのサンプルの欠陥や汚染物質を検出し、特徴付けることです。このユニットは、25nmから6nmの間で測定されるパターンを調べるために特別に設計されており、さまざまなマイクロエレクトロニクス製造プロセスに最適な選択肢となってμます。TENCOR FLX 5200は、検査プロセス全体にわたって有意義なデータを提供するために、高度なイメージングおよび分析機能を使用しています。白色、紫外線（UV）、光学ノードの組み合わせを含む3方向および4方向のイメージングを通じて、デバイスのあらゆる側面からデータが収集されます。このデータは自動化された方法で分析および報告され、検査対象の効率的かつ正確な画像が得られます。また、KLA/TENCOR FLX 5200は、超高解像度イメージングと強化されたフォーカス機能を備えており、ユーザーはウェーハ表面の細部をズームインして検査することができます。これは、ナノスケールのレベルで粒子や他の汚染物質を識別するのに理想的です。検査プロセスをさらに強化するために、機械には、表面および基板の特徴を考慮した自動アライメントと測定が含まれています。このツールには、直感的なオペレータインターフェイスと高度なイメージング技術も搭載されています。この組み合わせにより、アセットの設定、データのキャプチャ、実行可能なレポートの生成が簡単になります。一言で言えば、FLX-5200は、高速イメージング、自動化された測定、直感的な制御、および高められた焦点機能を提供する最先端のマスクおよびウェーハ検査モデルであり、さまざまな基板における欠陥や汚染物の信頼性の高い検出と特性評価を提供します。マイクロエレクトロニクス製造における精度と品質管理を確保するための貴重なツールです。