中古 KLA / TENCOR EV300 #9267083 を販売中

KLA/TENCOR EV300は、重要な光学および計測用途向けに設計された完全自動化された高精細マスクおよびウェハ検査装置です。KLA EV 300は、高度なレーザースキャン干渉計（LSI）技術を使用して、幅広いマスクおよびウェーハ技術プラットフォームで優れた欠陥検出と迅速な歩留まり評価を提供します。システムの高スループットスループットと生産性の向上により、ターンアラウンドを高速化し、所有コストを削減できます。TENCOR EV-300には独自のビジョンベースのユニットが含まれており、マスクおよびウェーハ検査アプリケーション向けの位相シフトおよび強度イメージングを備えた高スループットのリアルタイムイメージングを可能にします。有機マスクや無機マスク、標準フラットパネルディスプレイ基板などの大判マスクを0.2µm以上の解像度で検査することができます。マスクおよび基板検査の位相シフト機能を0。1nmまで実現することで、従来のマスク検査技術では検出できなかった重大な欠陥を検出することができます。また、KLA EV300には、最適なスループットと柔軟性を実現するように設計されたレーザースキャナーが搭載されています。これは、スキャン速度の最適化と校正の容易さを向上させることを可能にする特許出願中のビームステアリングアクチュエータ技術によって達成されます。レーザースキャンエンジンは、マスクや基板の微小欠陥を検出するように設計されていますが、専用の波面干渉計は、より正確な検査のための位相シフト機能を提供します。KLA/TENCOR EV-300には、プロセス制御を強化し、生産性を向上させる統合されたソフトウェアツールも含まれています。このソフトウェアには直感的なグラフィカルユーザーインターフェイス（GUI）が含まれており、複雑な多層マスクの検査と分析のタスクを簡素化します。さらに、ユーザーインターフェイスをカスタマイズする機能により、ユニークなユーザーエクスペリエンスと自動化されたワークフローが可能になります。さらに、このソフトウェアには、データ分析、欠陥識別、特性評価、テスト最適化などのプロセス特性評価および分析機能も含まれています。全体として、KLA/TENCOR EV 300は、高度で完全に自動化されたマスクおよびウェーハ検査アセットであり、重要な光学および計測アプリケーション向けに設計されています。ハイスループットイメージング機能、レーザースキャン機能、専用波面干渉計を組み合わせることで、欠陥検出と歩留まり評価を容易にし、所有コストを削減し、プロセス制御を改善します。有機マスク、無機マスク、標準フラットパネルディスプレイ基板、マイクロ欠陥の検査能力EV-300備え、幅広い用途で効率を最大限に高めます。