中古 KLA / TENCOR ES35D #9254833 を販売中

KLA/TENCOR ES35Dは、半導体製造設備で使用されるマスクとウェハ検査装置のユニークな組み合わせです。このツールは、チップ製造に使用される画像とウエハの両方の微細な欠陥を検出するのに役立ちます。マスクサイズ356mm×438mm、ウエハサイズ508mmまで対応可能な検査エリアを備えています。このシステムは、特許取得済みの低背散乱レーザー学習センサ（L3S）技術を使用して、画像とウェーハの欠陥を特定します。この技術は、欠陥の検出に極端な感度と精度を提供し、粒子の汚染物とレイアウト欠陥の両方を検出することができます。また、0。05ミクロン程度のサブミクロンレベルの欠陥を検出し、高い精度で欠陥を検出することができます。ユニットは、フロントエンドとバックエンドの2つの部分で構成されています。フロントエンドでは、可変ズームレンズを備えたマルチチャンネルオプティクスを使用して、高解像度画像を提供します。このツールで撮影した画像をリアルタイムで処理することができ、複数のウェーハとマスクを同時に効率的に検査することができます。バックエンドでは、このアセットはImage Analysis （IA）測定と重要なモノリシック欠陥検査にフラグを付けて、潜在的な欠陥の位置を特定できます。また、欠陥のないウェーハやマスクが必要な場所を特定するためのパターンマッチングおよび形状認識機能も提供します。このモデルは、画像を他の場所にエクスポートしたり、検査データをデータベースに保存したりできます。KLA ES35Dは、誤報レベルを最小限に抑え、生産スループットを向上させるように設計されています。また、検査速度と精度を向上させ、手作業による検査時間を短縮できる自動化機能も多数搭載しています。その高度なパターン認識技術は、粒子やレイアウト欠陥の位置を識別し、分析するのに役立ちます。全体として、TENCOR ES35Dは、さまざまな高解像度画像およびウェーハ検査タスクのための高度で信頼性の高いツールです。それは特に製造速度および正確さを高めるように設計されています。Laser Learning Sensor （L3S）技術と専用のバックエンド機能により、幅広い半導体生産要件に非常に有用なシステムとなります。