中古 KLA / TENCOR eS32 #9308154 を販売中

KLA/TENCOR eS32は半導体産業のために設計されたマスクおよびウェーハの点検装置です。このシステムは、高スループット、6シグマ歩留まり、再現性、信頼性を備えています。フォトマスクやウェーハの光検査を自動化し、高解像度で広い視野を提供します。高い精度を維持しながら、プロセス制御を向上させることができます。KLA eS32ユニットには、高度な光学、反射イメージング、分光、回折、X線イメージング、計測など、さまざまな検査技術とソフトウェアが含まれています。0。2〜500 μ mの範囲でパターンを検査することができ、最小分解能は0。1 μ mで、小型で複雑な構造の高解像度イメージングが可能です。このツールには、多種多様なマスクやウェーハ上で素早く正確に画像を撮ることができる、超精密なモーションメカニクスも装備されています。また、フォトマスクやウェハパターン認識に特化したソフトウェアも搭載しています。このソフトウェアは、欠落した粒子、不正確な沈殿物、不完全な印刷物などの欠陥を検出するように設計されています。様々なマスク層からパターンを自動的に判別することが可能で、精度の高い薄い特徴の検出が可能です。さらに、TENCOR ES 32装置は3Dで欠陥を可視化することができ、フォトマスクやウェーハの詳細な検査と診断が可能です。このシステムには、自動焦点検出、低コントラスト原子検出、ピッチドリフトの監視、オートフォーカススタック検査など、さまざまな高度な機能が搭載されています。ES 32ユニットは、高品質の要件を満たすように設計されており、信頼性の高い結果を提供します。高い歩留まりと低コストが求められる先進的な半導体製造に最適です。このマシンは、グラフィカルユーザーインターフェイス、Webベースのリモートサポート、高度なプログラミングおよび分析ツールのスイートで、使いやすいように設計されています。全体として、KLA ES 32マスクとウェーハ検査ツールは、高度な検査技術とユーザーフレンドリーなインターフェイスの完璧な組み合わせであり、高度な半導体製造に理想的なソリューションを提供します。