中古 KLA / TENCOR eS31 #9298886 を販売中

KLA/TENCOR eS31は、高い精度とスループットを要求されるお客様のニーズを可能にする高性能マスクおよびウェーハ検査装置です。幅広い半導体デバイスにナノレベルの精度とこれまでにない検査速度を提供することができます。KLA eS31は、Lightningモジュールを備えたKLA SLF光学カラム、標準化されたHS統計バックグラウンド、およびGS1スキャン機能を備えた最適化された光学設計を備えています。SLF光学設計は、視野全体にわたって優れた均一性と画質を提供します。特許取得済みのエアサスペンションシステムにより、ナノメートルレベルの解像度で1M Hz以上の高速スキャンが可能です。これにより、そうでなければ見られなかった欠陥を迅速かつ正確に検出することができます。Lightningモジュールは、デバイス上のあらゆる機能を最も正確に検査するために、Infra-Red、紫外線、ウェーハ光学コントラストの4つの組み合わせを提供します。HS統計的背景は、サンプルからのライブ信号と信頼できる参照面の比較を提供し、汚染物質や欠陥を確実に検出します。GS1スキャン機能により、厚さ12インチから200ミリまでの半導体デバイスのウェーハを検査できます。スキャンは4秒以内に40,000m2までカバーすることができます。このユニットはまた、ハンドリングのニーズを最小限に抑えるために高度なオートメーションを備えています。TENCOR eS31用のソフトウェアには、次のようなさまざまな機能があります。自動相関、クラスタアルゴリズム、フラットビュー、オートビュー。自動相関とクラスタアルゴリズムにより、ウェーハの前面サーフェスと背面サーフェスの両方にある複数のデータセットからの検査データを同時に比較できます。フラットビューは、検出器の強度と信号と背景の解釈を決定するのに役立ちます。オートビューでは、マスク情報、アンパック情報、スキャン情報、サマリー情報を含む単一のビューを生成できます。要するに、TENCORのeS31は、ナノメートルレベルの精度とスループットを提供する高性能マスクおよびウェーハ検査機です。高度な光学設計、特許取得済みのエアサスペンションツール、ユーザーフレンドリーなソフトウェアを備えたKLA/TENCOR eS31は、あらゆる半導体製造のニーズに最適なソリューションです。